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公开(公告)号：CN105452956B
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN201480045458.7
申请日：2014-08-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明通过提供如下掩模坯料而解决上述课题，该掩模坯料，其特征在于，用于制造应用ArF准分子激光曝光光的半色调型的相移掩模，具有透明基板与半透光膜，该半透光膜形成于上述透明基板上且仅包含Si及N或仅包含Si、N、及O的半透光膜，且上述半透光膜，其在ArF准分子激光曝光光的波长下的消光系数为0.2～0.45的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的折射率为2.3～2.7的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的透光率为15％～38％的范围内，进而膜厚为57nm～67nm的范围内。
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公开(公告)号：CN106133599A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580015667.1
申请日：2015-01-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明提供一种掩模坯料，其具有透明基板、形成于所述透明基板上的半透明层、形成于所述半透明层上的中间层、和形成于所述中间层上的遮光层，所述遮光层由不含过渡金属的单一金属材料构成，所述遮光层的膜厚为40nm以下，层叠有所述半透明层、所述中间层、所述遮光层的3种层的层叠体相对于曝光光的光学密度，为作为遮光区域发挥功能的值以上；因此，其可用于制造即使遮光图案膜减薄仍具有高遮光性，可减小EMF偏差值，图案加工性、耐光性、耐药品性优异，适合于晶圆上的半间距40nm以下的光刻技术的半色调型相位位移掩模。
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公开(公告)号：CN105452956A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480045458.7
申请日：2014-08-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明通过提供如下掩模坯料而解决上述课题，该掩模坯料，其特征在于，用于制造应用ArF准分子激光曝光光的半色调型的相移掩模，具有透明基板与半透光膜，该半透光膜形成于上述透明基板上且仅包含Si及N或仅包含Si、N、及O的半透光膜，且上述半透光膜，其在ArF准分子激光曝光光的波长下的消光系数为0.2～0.45的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的折射率为2.3～2.7的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的透光率为15％～38％的范围内，进而膜厚为57nm～67nm的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111913344A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010891721.1
申请日：2014-08-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 一种相移掩模及使用其的图案形成体的制造方法，是应用ArF准分子激光曝光光的半色调型的相移掩模，该相移掩模具有透明基板和半透光膜图案，该半透光膜图案形成于所述透明基板上且仅包含Si及N或者仅包含Si、N以及O，该半透光膜图案在ArF准分子激光曝光光的波长下的消光系数为0.2～0.45的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的折射率为2.3～2.7的范围内，在ArF准分子激光曝光光的波长下的透光率为15％～38％的范围内，膜厚为57nm～67nm的范围内，该半透光膜图案具有被晶片解析的主图案和辅助所述主图案的解析而不被晶片解析的辅助图案，所述辅助图案为凸状图案且具有60nm以下的宽度或深度。
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公开(公告)号：CN102308256A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080007022.0
申请日：2010-02-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32 , G03F1/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/72 , G03F1/0076 , G03F1/0092 , G03F1/144 , G03F1/28 , G03F1/30 , G03F1/32 , G03F1/36 , G03F1/38 , G03F1/44 , G03F1/80
Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。
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公开(公告)号：CN1455439A
公开(公告)日：2003-11-12
申请号：CN03103366.0
申请日：2003-01-24
IPC: H01L21/027 , H01L21/30 , G03F1/08
CPC classification number: G03F1/84 , G03F1/56 , Y10S438/949
Abstract: 课题在于缩短掩模的制作时间。在用光刻胶膜构成遮光体的掩模RM的缺陷检查中，采用使用异物检查装置CIS，读取对照射到掩模RM上的检查光的反射光、透过光或这两方的光学信息的办法，检查掩模RM上边的光刻胶图形的卷边、膜减薄、异物等这样的缺陷的有无。就是说，在掩模RM的检查中，可以不进行要求多的测定时间和高级技术的比较检查来进行缺陷检查。因此，可以简化掩模RM的检查工序，还可以缩短掩模的检查时间。
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公开(公告)号：CN106133599B
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201580015667.1
申请日：2015-01-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明提供一种掩模坯料，其具有透明基板、形成于所述透明基板上的半透明层、形成于所述半透明层上的中间层、和形成于所述中间层上的遮光层，所述遮光层由不含过渡金属的单一金属材料构成，所述遮光层的膜厚为40nm以下，层叠有所述半透明层、所述中间层、所述遮光层的3种层的层叠体相对于曝光光的光学密度，为作为遮光区域发挥功能的值以上；因此，其可用于制造即使遮光图案膜减薄仍具有高遮光性，可减小EMF偏差值，图案加工性、耐光性、耐药品性优异，适合于晶圆上的半间距40nm以下的光刻技术的半色调型相位位移掩模。
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公开(公告)号：CN102308256B
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201080007022.0
申请日：2010-02-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03F1/32 , G03F1/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/72 , G03F1/0076 , G03F1/0092 , G03F1/144 , G03F1/28 , G03F1/30 , G03F1/32 , G03F1/36 , G03F1/38 , G03F1/44 , G03F1/80
Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。
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