公开(公告)号：CN102308256A

公开(公告)日：2012-01-04

申请号：CN201080007022.0

申请日：2010-02-04

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 长井隆治 ,  高见泽秀吉 ,  毛利弘 ,  森川泰考 ,  早野胜也

IPC: G03F1/32 ,  G03F1/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/0076 ,  G03F1/0092 ,  G03F1/144 ,  G03F1/28 ,  G03F1/30 ,  G03F1/32 ,  G03F1/36 ,  G03F1/38 ,  G03F1/44 ,  G03F1/80

Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。

公开(公告)号：CN102308256B

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201080007022.0

申请日：2010-02-04

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 长井隆治 ,  高见泽秀吉 ,  毛利弘 ,  森川泰考 ,  早野胜也

IPC: G03F1/32 ,  G03F1/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/72 ,  G03F1/0076 ,  G03F1/0092 ,  G03F1/144 ,  G03F1/28 ,  G03F1/30 ,  G03F1/32 ,  G03F1/36 ,  G03F1/38 ,  G03F1/44 ,  G03F1/80

Abstract: 提供一种使用在以ArF准分子激光为曝光光源的、基于变形照明的投影曝光中、能够确保作为辅助图案的焦点深度放大效果、同时在不使辅助图案发生析像的情况下形成主图案的高对比度的转印图像的具有辅助图案的半色调掩模及其制造方法。光掩模是在设有通过投影曝光而向转印对象面转印的主图案和形成在主图案的附近且不转印的辅助图案的光掩模，其特征在于，主图案和辅助图案通过由同一材料形成的半透明膜构成，使透过主图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生180度的相位差，且使透过辅助图案的光与透过透明基板的透明区域的光产生70度～115度范围的规定的相位差。