一种基于p-dipole材料Ga2O3的MOSCAP器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN119545816A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411490382.0

    申请日:2024-10-24

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于p‑dipole材料Ga2O3的MOSCAP器件及其制备方法;本发明首先通过热氧化法,在p‑Si衬底上生长SiO2界面层(IL)。通过原子层沉积技术在IL层上生长不同循环数的Ga2O3,并原位生长HfO2薄膜。接着,器件快速退火,以修复介质层间的氧化物缺陷。最后,制备出图形化的W电极,从而得到MOSCAP器件;本发明中,加入Ga2O3偶极子层后的MOSCAP器件表现出较低的回滞曲线,且仅增加了极低的等效氧化物厚度(EOT),同时实现了显著的VFB正向调节。本发明证实了Ga2O3是一种具有潜力的新型p‑dipole材料,在先进工艺节点的多阈值技术发展中展现出广阔的应用前景。

    针对FPGA器件SerDes模块的单粒子效应测试方法及装置

    公开(公告)号:CN114527372A

    公开(公告)日:2022-05-24

    申请号:CN202210146483.0

    申请日:2022-02-17

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本申请涉及集成电路技术领域,特别涉及一种针对FPGA器件SerDes模块的单粒子效应测试方法及装置,其中,方法包括:利用作为主控器件的第一FPGA器件生成目标码型的第一SBS码;在作为待测试设备的第二FPGA器件传输第一SBS码的过程中,控制第一FPGA器件使得第一SBS码接受辐射,并检测辐射后目标码型的第二SBS码;参照第二SBS码,统计SBS的误码数量和错误类型,生成单粒子效应测试结果。由此,解决了相关技术中对于FPGA器件SerDes模块测试的稳定性低、精确度不高、实时性较差,且测试适用性较差等问题。

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