公开(公告)号：CN110129730A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910474490.1

申请日：2019-06-03

Applicant: 复旦大学

Inventor： 沈杰 ,  罗杰 ,  崔晓莉 ,  李忠 ,  尹延林

IPC: C23C14/14 ,  C23C14/35 ,  C25D11/26 ,  C22F1/02

Abstract: 本发明涉及一种钼掺杂二氧化钛纳米管阵列薄膜的制备方法，所述制备方法先后采用磁控溅射法和阳极氧化技术，钼掺杂浓度通过溅射靶的钼、钛的原子浓度比来调节，纳米管尺寸和长度由阳极氧化技术控制；具体步骤为：清洗基板；在清洗后的基板上使用磁控溅射法沉积MoTi合金膜；控制基板温度为室温~300℃；采1.7用~1氩77气 k，W控/制m真2；将空制室备内得气到压的为M0.o1~T2i.合5 金Pa膜，溅在电射功解率液密中度采为用阳极氧化技术得到钼掺杂二氧化钛纳米管阵列薄膜；将钼掺杂二氧化钛纳米管阵列薄膜进行退火处理。本发明方法具有工业生产前景，实验重复性好，是一种制备优异光电转换性的Mo掺杂TiO2纳米管阵列薄膜的新方法。

公开(公告)号：CN112675922A

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN202011458524.7

申请日：2020-12-10

Applicant: 复旦大学

Inventor： 沈杰 ,  尹延林 ,  薛丹妮

IPC: B01J35/06 ,  B01J31/22 ,  B01J21/06 ,  B01J31/38 ,  B01J37/34 ,  B01J23/28 ,  C02F1/30 ,  C02F101/30 ,  C02F101/34 ,  C02F101/36 ,  C02F101/38

Abstract: 本发明属于光催化薄膜技术领域，具体为三层结构的TiO2光催化薄膜及其制备方法。本发明的光催化薄膜中，底层为掺Mo的TiO2薄膜，中间层为甲胺铅碘钙钛矿薄膜，顶层为掺Mo的TiO2薄膜；其中底层与顶层的掺Mo浓度相同或不同。本发明采用全真空环境下的气相沉积技术，利用磁控溅射与真空蒸发方法制备三层结构的TiO2光催化薄膜。本发明将甲胺铅碘钙钛矿型窄带隙材料引入到掺Mo的TiO2薄膜作为中间层，在可见光下可产生大量电子‑空穴对；并利用多层薄膜层与层间的费米能级差在薄膜内植入多个可调制的内建电场，有效地提高载流子的迁移率。由此得到具有高效光吸收性和光催化活性的多层TiO2薄膜，具有很好的实用价值。

公开(公告)号：CN112675922B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202011458524.7

申请日：2020-12-10

Applicant: 复旦大学

Inventor： 沈杰 ,  尹延林 ,  薛丹妮

IPC: B01J35/06 ,  B01J31/22 ,  B01J21/06 ,  B01J31/38 ,  B01J37/34 ,  B01J23/28 ,  C02F1/30 ,  C02F101/30 ,  C02F101/34 ,  C02F101/36 ,  C02F101/38

Abstract: 本发明属于光催化薄膜技术领域，具体为三层结构的TiO2光催化薄膜及其制备方法。本发明的光催化薄膜中，底层为掺Mo的TiO2薄膜，中间层为甲胺铅碘钙钛矿薄膜，顶层为掺Mo的TiO2薄膜；其中底层与顶层的掺Mo浓度相同或不同。本发明采用全真空环境下的气相沉积技术，利用磁控溅射与真空蒸发方法制备三层结构的TiO2光催化薄膜。本发明将甲胺铅碘钙钛矿型窄带隙材料引入到掺Mo的TiO2薄膜作为中间层，在可见光下可产生大量电子‑空穴对；并利用多层薄膜层与层间的费米能级差在薄膜内植入多个可调制的内建电场，有效地提高载流子的迁移率。由此得到具有高效光吸收性和光催化活性的多层TiO2薄膜，具有很好的实用价值。