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公开(公告)号：CN114127912A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202080050904.9
申请日：2020-08-14
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/768
Abstract: 提供了用于形成梯形互连的技术。在一个方面，一种用于形成互连结构的方法包括：在电介质中图案化具有V形轮廓的沟槽，V形轮廓具有圆形底部；使用PVD将衬垫沉积到沟槽中，PVD打开沟槽以在沟槽中产生梯形轮廓；相对于所述电介质选择性地从所述沟槽去除所述衬垫，由此在去除之后，具有所述梯形轮廓的所述沟槽保留在所述电介质中；将共形阻挡层沉积到具有所述梯形轮廓的所述沟槽中并对所述沟槽加衬；在所述共形阻挡层上沉积导体并填充具有所述梯形轮廓的所述沟槽；以及将所述导体和所述共形阻挡层向下抛光至所述电介质。还提供了一种互连结构。
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