公开(公告)号：CN100530591C

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200610166984.6

申请日：2006-12-13

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 考希克·A·库马尔 ,  蒂莫西·J·多尔顿 ,  尼古拉斯·C·M·富勒 ,  陈行聪 ,  海迪·L·贝克斯

IPC: H01L21/768 ,  H01L21/311

CPC classification number: H01L21/76802 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76811

Abstract: 本发明提供一种在有机硅酸盐玻璃层内形成镶嵌互连结构而不损坏有机硅酸盐玻璃材料的方法。所述方法包括在有机硅酸盐玻璃层上形成硬掩模层的叠层，利用等离子体蚀刻和等离子体光致抗蚀剂去除工艺的组合定义硬掩模和有机硅酸盐玻璃层中的开口，并执行不包括含氧物质的一个或多个另外的等离子体蚀刻工艺以将所述开口蚀刻至形成镶嵌互连结构所需的深度以及去除由于等离子体蚀刻和等离子体光致抗蚀剂去除工艺的组合所损坏的任何有机硅酸盐材料。

公开(公告)号：CN1988132A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200610166984.6

申请日：2006-12-13

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 考希克·A·库马尔 ,  蒂莫西·J·多尔顿 ,  尼古拉斯·C·M·富勒 ,  陈行聪 ,  海迪·L·贝克斯

IPC: H01L21/768 ,  H01L21/311

CPC classification number: H01L21/76802 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76811

Abstract: 本发明提供一种在有机硅酸盐玻璃层内形成镶嵌互连结构而不损坏有机硅酸盐玻璃材料的方法。所述方法包括在有机硅酸盐玻璃层上形成硬掩模层的叠层，利用等离子体蚀刻和等离子体光致抗蚀剂去除工艺的组合定义硬掩模和有机硅酸盐玻璃层中的开口，并执行不包括含氧物质的一个或多个另外的等离子体蚀刻工艺以将所述开口蚀刻至形成镶嵌互连结构所需的深度以及去除由于等离子体蚀刻和等离子体光致抗蚀剂去除工艺的组合所损坏的任何有机硅酸盐材料。