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公开(公告)号：CN101978021A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980109487.4
申请日：2009-03-18
Applicant: 国立大学法人新泻大学 , 住友化学株式会社
CPC classification number: C09K11/7738 , H01J61/44 , H01L33/502
Abstract: 本发明涉及一种近紫外线激发发光元件用荧光体，其为式(1)所示化合物中的元素M1及/或M2的一部分被活化元素(M3)取代而成，M1aM2bPcO15(1)(这里，M1表示选自Ca、Sr及Ba的1种以上，M2表示选自Mg及Zn的1种以上，a为1.5以上2.5以下范围的值，b为2.5以上3.5以下范围的值，c为3.5以上4.5以下范围的值)。优选M1为Sr、M2为Mg的上述荧光体，优选M3为Eu的上述荧光体。本发明还涉及具有上述荧光体的荧光体糊剂及具有上述荧光体的发光强度高的近紫外线激发发光元件。
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公开(公告)号：CN102007195B
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN200980113217.0
申请日：2009-03-18
Applicant: 国立大学法人新泻大学 , 住友化学株式会社
CPC classification number: C09K11/7734 , H01J61/44
Abstract: 提供可以表现更高发射亮度的荧光体。其中活化剂被包含在由式xM1O·M2O·yM3O2(M1表示选自由Ca、Sr和Ba组成的组中的一种或多种元素，M2表示Mg和/或Zn，M3表示Si和/或Ge，x是在4至6的范围内的值，并且y是在2至4的范围内的值)表示的化合物中的荧光体。由式M15(1-z)EuzM2M33O12(其中M1、M2和M3具有与上述相同的含义，并且z是在0.0001至0.3的范围内的值)表示的荧光体。上述荧光体具有与白硅钙石相同的晶体结构。
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公开(公告)号：CN102007195A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200980113217.0
申请日：2009-03-18
Applicant: 国立大学法人新泻大学 , 住友化学株式会社
CPC classification number: C09K11/7734 , H01J61/44
Abstract: 提供可以表现更高发射亮度的荧光体。其中活化剂被包含在由式xM1O·M2O·yM3O2(M1表示选自由Ca、Sr和Ba组成的组中的一种或多种元素，M2表示Mg和/或Zn，M3表示Si和/或Ge，x是在4至6的范围内的值，并且y是在2至4的范围内的值)表示的化合物中的荧光体。由式M15(1-z)EuzM2M33O12(其中M1、M2和M3具有与上述相同的含义，并且z是在0.0001至0.3的范围内的值)表示的荧光体。上述荧光体具有与白硅钙石相同的晶体结构。
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公开(公告)号：CN101978023A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200980109380.X
申请日：2009-03-18
Applicant: 国立大学法人新泻大学 , 住友化学株式会社
CPC classification number: C09K11/7792 , C09K11/0883 , H01J61/44 , H01L33/502
Abstract: 本发明的目的在于提供可获得能够进一步改善以演色性为主的发光特性的发光装置的荧光体。本发明是一种荧光体，其为下式(1)所示化合物中的M2的至少一部分被M4(M4表示3价阳离子元素)取代、该化合物中的O的一部分被M5(M5表示3价阴离子元素)取代、该化合物的M1和/或M2的一部分被活化元素取代而成，aM1O·3M2O·6M3O2 (1)(这里，M1表示选自Ba、Sr和Ca的1种以上的碱土类金属元素、M2表示选自Mg和Zn的1种以上的2价金属元素、M3表示四价金属元素、a为3以上9以下范围的值)。
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公开(公告)号：CN107435138A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201710197279.0
申请日：2017-03-29
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C23C16/40 , H01L51/52 , H01L51/56 , H01J37/244 , H01J37/285
CPC classification number: H01L51/5253 , B05D1/005 , B05D3/067 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/509 , H01J37/244 , H01J37/285 , H01L51/0097 , H01L51/56 , H01L2251/303 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供能够以更高水准防止水蒸气透过的层叠膜。该层叠膜是在树脂基材上至少层叠有气体阻隔层和无机聚合物层的层叠膜，无机聚合物层的利用截面的透射式电子显微镜图像按照以下的(a)～(d)的步骤算出的Y值为0.220以下。(a)算出无机聚合物层的电子束未照射部的对比度的标准偏差(σ)。(b)将无机聚合物层的电子束照射部沿膜厚方向以成为均等膜厚的方式分割成20份，算出各分割部的对比度的标准偏差(σn:第n分割份的标准偏差，n＝1～20)。(c)通过式(1)算出各分割部的Xn(n＝1～20)。Xn＝σn/σ(n＝1～20)···(1)(d)将X3～X18的标准偏差设为Y。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107425133A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710196806.6
申请日：2017-03-29
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 伊藤丰
CPC classification number: H01L51/5253 , C23C16/401 , C23C16/509 , C23C16/545 , H01L51/0097 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种能够以高水准防止水蒸气透过、且在用作有机EL元件等电子设备的支撑基板时能够长期抑制暗斑产生的层叠膜。该层叠膜是在树脂基材上至少层叠有气体阻隔层和无机聚合物层的层叠膜，无机聚合物层表面的算术平均高度(Sa)为20nm以下，在试样室内收容含有无机聚合物层的层叠膜，一边使25℃、85％RH的加湿空气在试样室内流通，一边在85℃对试样室内进行1小时加热时的无机聚合物层单位质量的NH3气体产生量为5000质量ppm以下。
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公开(公告)号：CN105848880A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201480070996.1
申请日：2014-12-11
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/308 , C23C16/325 , C23C16/345 , C23C16/507 , C23C16/545 , H01B1/04 , H05K1/028
Abstract: 一种层叠膜，其具有挠性基材、形成在上述基材的至少单侧的表面上的第1薄膜层和形成在第1薄膜层上的第2薄膜层，其中，上述第1薄膜层含有硅原子(Si)、氧原子(O)和碳原子(C)，上述第2薄膜层含有硅原子、氧原子和氮原子(N)，上述第1薄膜层和第2薄膜层使用辉光放电等离子体形成。
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公开(公告)号：CN102361690A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201080013009.6
申请日：2010-03-23
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: H01M4/8657 , H01M4/9016 , H01M2008/1095
Abstract: 本发明提供一种电极催化剂的制造方法，其包含以下工序：在将以下的第二材料变化成炭材料的条件下对在超临界状态或亚临界状态的水的存在下使含有以下的第一材料和以下的第二材料的混合物发生水热反应所获得的电极催化剂的前体进行烧成的工序；或者在将以下的第二材料变化成炭材料的条件下对将在超临界状态或亚临界状态的水的存在下使以下的第一材料发生水热反应所获得的反应物与以下的第二材料混合所获得的电极催化剂的前体进行烧成的工序，第一材料为由选自4A族元素和5A族元素的1种以上的金属元素及选自氢、氮、氯、碳、硼、硫和氧的1种以上的非金属元素所构成的金属化合物；第二材料为炭材料前体。
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公开(公告)号：CN107331784A
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201710197298.3
申请日：2017-03-29
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 伊藤丰
Abstract: 本发明提供能够以高水准防止水蒸气透过且具有良好的耐弯曲性的层叠膜。该层叠膜是在树脂基材上至少层叠有气体阻隔层和无机聚合物层的层叠膜，关于上述无机聚合物层的膜厚方向的从该层的表面起的距离与相对于硅原子、氧原子、碳原子和氮原子的合计量的氧原子的比率(氧原子比)，从与上述气体阻隔层相反的一侧的表面起到沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值与从沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％起到上述气体阻隔层侧的表面为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值之比为1.05以上。
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公开(公告)号：CN117471598A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310928207.4
申请日：2023-07-26
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B1/14 , G02F1/1333 , G02F1/1334 , G02F1/1337
Abstract: 本发明提供能够通过减少了工序数的制造方法来制造的光学层叠体及其制造方法。一种光学层叠体，其依次层叠有保护膜A、粘接剂层A、偏振片、粘接剂层B和保护膜B，上述光学层叠体具有取向膜A、相位差膜A和相位差膜B，上述偏振片是二色性色素在聚乙烯醇系树脂膜中取向而成的膜，上述取向膜A配置于上述保护膜B的单侧，上述相位差膜A配置于上述取向膜A的与上述保护膜B侧相反的一侧，是聚合性液晶化合物在取向的状态下固化而成的膜，上述相位差膜B直接或借由取向膜B而配置于上述保护膜B的与上述取向膜A侧相反的一侧、或配置于上述相位差膜A的与上述取向膜A侧相反的一侧，是聚合性液晶化合物在取向的状态下固化而成的膜。
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