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公开(公告)号：CN117836364A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280050989.X
申请日：2022-07-25
IPC: C08L23/00 , C08L101/16 , C08L67/04 , C08L67/02 , C08L23/12
Abstract: 树脂组合物包含烯烃类聚合物A、聚合物B‑1和聚合物B‑2。聚合物B‑1为具有150℃～220℃的熔点的聚(3‑羟基烷酸酯)类聚合物，聚合物B‑2为具有180℃～220℃的熔点的芳香族聚酯。相对于烯烃类聚合物A、聚合物B‑1和聚合物B‑2的合计100质量份，烯烃类聚合物A的含量为70质量份～95质量份，聚合物B‑1的含量为1质量份～15质量份，聚合物B‑2的含量为1质量份～25质量份。
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公开(公告)号：CN107614576B
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN201680029990.9
申请日：2016-06-08
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08J5/00 , B29C48/21 , B32B27/30 , C08L27/16 , C08L33/10 , G06F3/041 , B29K27/12 , B29K33/04 , B29L7/00 , B29L9/00
Abstract: 本发明提供一种成型体，其是由包含偏二氟乙烯树脂和(甲基)丙烯酸树脂的树脂组合物形成的，并且满足[I]～[III]中的全部条件。[I]相对于(甲基)丙烯酸树脂和上述偏二氟乙烯树脂的总量100重量份而言，树脂组合物包含15～60重量份(甲基)丙烯酸树脂和40～85重量份偏二氟乙烯树脂。[II]将成型体在波数Q＝0.012nm‑1时的小角X射线散射强度记为I0，并且将使成型体暴露(expose)在温度为60℃、相对湿度为90％的环境下120小时后的成型体在波数Q＝0.012nm‑1时的小角X射线散射强度记为IA时，I0与IA满足IA/I0
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公开(公告)号：CN107614576A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680029990.9
申请日：2016-06-08
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08J5/00 , B29C47/06 , B32B27/30 , C08L27/16 , C08L33/10 , G06F3/041 , B29K27/12 , B29K33/04 , B29L7/00 , B29L9/00
Abstract: 本发明提供一种成型体，其是由包含偏二氟乙烯树脂和(甲基)丙烯酸树脂的树脂组合物形成的，并且满足[I]～[III]中的全部条件。[I]相对于(甲基)丙烯酸树脂和上述偏二氟乙烯树脂的总量100重量份而言，树脂组合物包含15～60重量份(甲基)丙烯酸树脂和40～85重量份偏二氟乙烯树脂。[II]将成型体在波数Q＝0.012nm-1时的小角X射线散射强度记为I0，并且将使成型体暴露(expose)在温度为60℃、相对湿度为90％的环境下120小时后的成型体在波数Q＝0.012nm-1时的小角X射线散射强度记为IA时，I0与IA满足IA/I0
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公开(公告)号：CN106660318A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580047436.9
申请日：2015-09-07
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: B32B9/00 , C23C16/42 , C23C16/509
CPC classification number: C23C16/32 , B32B9/00 , C23C16/401 , C23C16/50 , C23C16/509 , C23C16/545
Abstract: 本发明的课题是提供将不同种类的层设置于薄膜层上时耐冲击性优异的阻气性层叠膜。本发明提供一种层叠膜，其具备挠性基材和形成于上述基材的至少一侧的表面上的薄膜层，上述薄膜层含有Si、O和C，对上述薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，使用由宽扫描能谱得到的相当于Si的2p、O的1s、N的1s和C的1s的各自的结合能的峰而算出的C相对于Si的原子数比在下述式(1)的范围，对上述薄膜层表面进行红外光谱测定时，存在于950～1050cm‑1的峰强度(I1)与存在于1240～1290cm‑1的峰强度(I2)的强度比在下述式(2)的范围。0.01＜C/Si≤0.20(1) 0.01≤I2/I1＜0.05(2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105848880A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201480070996.1
申请日：2014-12-11
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/308 , C23C16/325 , C23C16/345 , C23C16/507 , C23C16/545 , H01B1/04 , H05K1/028
Abstract: 一种层叠膜，其具有挠性基材、形成在上述基材的至少单侧的表面上的第1薄膜层和形成在第1薄膜层上的第2薄膜层，其中，上述第1薄膜层含有硅原子(Si)、氧原子(O)和碳原子(C)，上述第2薄膜层含有硅原子、氧原子和氮原子(N)，上述第1薄膜层和第2薄膜层使用辉光放电等离子体形成。
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公开(公告)号：CN102113153A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200980130201.0
申请日：2009-07-29
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: H01M4/136 , H01M4/58 , H01M4/587 , H01M10/0569 , Y10T29/49108
Abstract: 本发明提供钠二次电池。钠二次电池含有第1电极和具碳材料的第2电极，碳材料满足选自要件1、要件2、要件3和要件4的一个以上。要件1：由拉曼分光测定得到的R值(＝ID/IG)为1.07以上3以下。要件2：由X射线小角度散射测定得到的A值为-0.5以上0以下，且σA值为0以上0.010以下。要件3：对于具有将85重量份碳材料和15重量份聚偏1，1-二氟乙烯混合得到的电极混合剂的电极，钠离子的掺杂且去掺杂后的电极中的碳材料实质上不存在10nm以上的微孔。要件4：由差示热分析测定得到的Q1值为800焦耳/g以下。
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公开(公告)号：CN106660318B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN201580047436.9
申请日：2015-09-07
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: B32B9/00 , C23C16/42 , C23C16/509
Abstract: 本发明的课题是提供将不同种类的层设置于薄膜层上时耐冲击性优异的阻气性层叠膜。本发明提供一种层叠膜，其具备挠性基材和形成于上述基材的至少一侧的表面上的薄膜层，上述薄膜层含有Si、O和C，对上述薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，使用由宽扫描能谱得到的相当于Si的2p、O的1s、N的1s和C的1s的各自的结合能的峰而算出的C相对于Si的原子数比在下述式(1)的范围，对上述薄膜层表面进行红外光谱测定时，存在于950～1050cm‑1的峰强度(I1)与存在于1240～1290cm‑1的峰强度(I2)的强度比在下述式(2)的范围。0.01＜C/Si≤0.20(1)0.01≤I2/I1＜0.05(2)。
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公开(公告)号：CN105873763B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201480070669.6
申请日：2014-12-11
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/30 , C23C16/401 , C23C16/507 , C23C16/545 , H01L51/5253 , H05B33/04
Abstract: 一种层叠膜，其具有挠性基材和形成在上述基材的至少一个表面上的至少1层薄膜层，其中，上述薄膜层中，至少1层满足全部下述条件(i)和(ii)：(i)含有硅原子(Si)、氧原子(O)和氮原子(N)；(ii)对薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，由宽扫描能谱计算出的碳原子相对于硅原子的原子数比满足由下述式(1)：0
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公开(公告)号：CN107356998A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710311660.5
申请日：2017-05-05
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/22
CPC classification number: G02B5/223 , C08K5/3467 , C08K5/3475 , C08K5/3492 , G02B5/206 , G02B5/208
Abstract: 本发明涉及用于含有聚酰亚胺系高分子等的柔性设备构件的前面板等的光学膜，在吸湿特性的提高、高的透明性、少的着色和充分的紫外线吸收能力的方面谋求改善。本发明公开了一种光学膜，含有聚酰亚胺系高分子和/或聚酰胺以及紫外线吸收剂。光学膜的光线透射率在380nm为5％以下，在420nm下为80％以上。
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