气体供给单元和气体供给系统

    公开(公告)号:CN101438091B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200680054549.2

    申请日:2006-06-02

    CPC classification number: F17D1/04 Y10T137/87177 Y10T137/87885

    Abstract: 小型、经济的气体供给单元和气体供给系统。气体供给单元(11A)安装在工作气体输送管路上,并且具有通过流路模块(12—17)连通且控制工作气体的流体控制装置(2—6,9)。气体供给单元具有第一流路模块(14),包括在流体控制装置内的入口开关阀(4)固定至其一侧,且气体供给单元还具有第二流路模块(17),包括在流体控制装置内的净化阀(9)固定至其一侧。第一流路模块(14)和第二流路模块(17)在垂直于工作气体的输送方向的方向上层叠。入口开关阀(4)和净化阀(9)设置在质量流控制器(5)和安装表面之间,其中所述质量流控制器(5)安装在工作气体输送管路上,单元(11A)安装在所述安装表面内。

    气体供给单元和气体供给系统

    公开(公告)号:CN101438091A

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200680054549.2

    申请日:2006-06-02

    CPC classification number: F17D1/04 Y10T137/87177 Y10T137/87885

    Abstract: 小型、经济的气体供给单元和气体供给系统。气体供给单元(11A)安装在工作气体输送管路上,并且具有通过流路模块(12-17)连通且控制工作气体的流体控制装置(2-6,9)。气体供给单元具有第一流路模块(14),包括在流体控制装置内的入口开关阀(4)固定至其一侧,且气体供给单元还具有第二流路模块(17),包括在流体控制装置内的净化阀(9)固定至其一侧。第一流路模块(14)和第二流路模块(17)在垂直于工作气体的输送方向的方向上层叠。入口开关阀(4)和净化阀(9)设置在质量流控制器(5)和安装表面之间,其中所述质量流控制器(5)安装在工作气体输送管路上,单元(11A)安装在所述安装表面内。

    旋转型切换阀
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101839355B

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201010135748.4

    申请日:2010-03-16

    Abstract: 本发明涉及一种旋转型切换阀,能够防止主流体从间隙部泄漏。旋转型切换阀具有:阀主体(2),形成流动有工艺气体的腔室连通路(24)和将主流体排出的排放连通路(25);以及圆筒阀芯(3),可旋转地保持在阀主体(2)内,内部形成供主流体流动的主流路(31),通过使圆筒阀芯3旋转,能够将主流路(31)在腔室连通路(24)和排放连通路(25)之间切换,其中,具有用于使清洗气体向阀主体(2)和圆筒阀芯(3)之间的间隙部(11)流动的清洗气体流路(22a、22b、22c、22d、22e),通过使清洗气体向间隙部(11)流动,防止主流体从主流路(31)泄漏。

    旋转型切换阀
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101839355A

    公开(公告)日:2010-09-22

    申请号:CN201010135748.4

    申请日:2010-03-16

    Abstract: 本发明涉及一种旋转型切换阀,能够防止主流体从间隙部泄漏。旋转型切换阀具有:阀主体(2),形成流动有工艺气体的腔室连通路(24)和将主流体排出的排放连通路(25);以及圆筒阀芯(3),可旋转地保持在阀主体(2)内,内部形成供主流体流动的主流路(31),通过使圆筒阀芯3旋转,能够将主流路(31)在腔室连通路(24)和排放连通路(25)之间切换,其中,具有用于使清洗气体向阀主体(2)和圆筒阀芯(3)之间的间隙部(11)流动的清洗气体流路(22a、22b、22c、22d、22e),通过使清洗气体向间隙部(11)流动,防止主流体从主流路(31)泄漏。

    原料气体供给系统和原料气体供给方法

    公开(公告)号:CN114391051A

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN202080063295.0

    申请日:2020-09-09

    Abstract: 本发明为一种对处理装置供给原料气体的原料气体供给系统,所述原料气体是通过将固体原料气化来生成的,所述原料气体供给系统包括:将所述固体原料气化来生成所述原料气体的气化装置;送出机构,其从贮存有分散系的贮存容器向所述气化装置送出所述分散系,其中,所述分散系是在液体中分散所述固态原料而成的;和分离机构,其在所述气化装置内从所述分散系中分离出所述固体原料。

    基板处理装置、气体供给方法、基板处理方法和成膜方法

    公开(公告)号:CN107236937B

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN201710191098.7

    申请日:2017-03-28

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、气体供给方法、基板处理方法和成膜方法。该基板处理装置具有:处理容器,其能够收纳基板;压力检测单元,其测定该处理容器内的压力;排气侧阀,其设置于将该处理容器内进行排气的排气管;气体贮存罐,其经由气体供给管而与所述处理容器连接;气体量测定单元,其测定该气体贮存罐中贮存的气体量;以及控制阀,其设置于所述第一气体供给管,基于由所述压力检测单元检测出的所述处理容器内的压力改变阀开度,来控制从所述气体贮存罐向所述处理容器供给的气体的流路面积,由此能够控制所述处理容器内的压力。

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