一种全光偏振开关的制备方法及系统

    公开(公告)号:CN119644585A

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202510027841.X

    申请日:2025-01-08

    Abstract: 本申请提供一种全光偏振开关的制备方法及系统,所述方法包括:获取偏振开关的性能要求,所述性能要求为所述偏振开关对于各个类型的偏振光的透射、反射或者吸收的对应指标;根据预设参数构建初始仿真模型,所述初始仿真模型为本征手性共振硅基超构表面,由若干基本单元排列构成,每个所述基本单元包括一非晶硅薄膜和位于非晶硅薄膜上的两个硅椭圆柱体;根据所述性能要求,通过有限元法调整所述初始仿真模型的预设参数,直至所述初始仿真模型满足所述性能要求,获得偏振开关仿真模型;根据所述偏振开关仿真模型,使用微纳制备工艺制备获得所述全光偏振开关,提高偏振开关的波段适用范围和响应速度。

    一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统

    公开(公告)号:CN113176000A

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN202110433253.8

    申请日:2021-04-22

    Abstract: 本发明提供了一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统,包括相位测量系统,相位测量系统包括准直光源发生器、红外光源产生器、第一反射镜、第二反射镜、第五反射镜、第六反射镜、第一小孔、分光装置、光电探测设备,准直光源发生器用于产生准直光源,准直光源依次经过第一反射镜、第二反射镜进行调制后再依次通过第一小孔、分光装置,最后在光电探测设备上得到干涉条纹;红外光源产生器用于产生红外光源,红外光源依次经过第五反射镜、第六反射镜、第二反射镜后再通过第一小孔、分光装置,最后在光电探测设备上得到光斑干涉。本发明的有益效果是:本发明的系统可以进行不同波段相位的测量,而且可以测量微米级别的超表面结构的相位。

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