一种多自由度冗余驱动运动台的柔性模态抑制方法

    公开(公告)号:CN117850316B

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410024802.X

    申请日:2024-01-08

    Abstract: 一种多自由度冗余驱动运动台的柔性模态抑制方法,属于半导体制造装备及运动台振动抑制领域。方法步骤是:步骤一:建立运动台基于模态特性且包含时延的数学模型;步骤二:分解动态输入解耦矩阵,使其包含一个动态参数矩阵,实现刚性模态独立控制,仅针对柔性模态抑制需求对动态参数矩阵设计;步骤三:基于全通滤波的方法,将动态参数矩阵表示为两个全通滤波器的线性组合;步骤四:以满足每个柔性模态谐振频率点的零增益为优化目标,建立优化方程和约束条件,利用启发式智能优化算法对全通滤波器参数进行优化;步骤五:得到满足柔性模态抑制需求的动态输入解耦矩阵。本发明能够实现在有限执行器冗余度条件下对全频段所有可控柔性模态的高性能抑制。

    一种多自由度冗余驱动运动台的柔性模态抑制方法

    公开(公告)号:CN117850316A

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202410024802.X

    申请日:2024-01-08

    Abstract: 一种多自由度冗余驱动运动台的柔性模态抑制方法,属于半导体制造装备及运动台振动抑制领域。方法步骤是:步骤一:建立运动台基于模态特性且包含时延的数学模型;步骤二:分解动态输入解耦矩阵,使其包含一个动态参数矩阵,实现刚性模态独立控制,仅针对柔性模态抑制需求对动态参数矩阵设计;步骤三:基于全通滤波的方法,将动态参数矩阵表示为两个全通滤波器的线性组合;步骤四:以满足每个柔性模态谐振频率点的零增益为优化目标,建立优化方程和约束条件,利用启发式智能优化算法对全通滤波器参数进行优化;步骤五:得到满足柔性模态抑制需求的动态输入解耦矩阵。本发明能够实现在有限执行器冗余度条件下对全频段所有可控柔性模态的高性能抑制。

    基于Compact Differential Evolution算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法

    公开(公告)号:CN105137717B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201510474801.6

    申请日:2015-08-05

    Abstract: 基于Compact Differential Evolution算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法,属于半导体制造装备技术领域及机械参数测量领域。为了解决现有工件台微动部分机械参数估计算法精度差的问题。所述方法包括如下步骤:步骤一:根据掩模台微动台的机械机构及其理论设计,建立微动台的理想运动学模型,确定待测机械参数,建立掩模台微动台含差模型;步骤二:给定位置输入,驱动微动台运动产生位移,将实际输出位移与通过建立的掩模台微动台含差模型计算出的输出位移值做差,作为导优的目标函数;步骤三:根据目标函数,利用Compact Differential Evolution优化学习算法确定待辨识的机械参数。它用于微动台的机械参数求取。

    基于Compact Particle Swarm Optimization算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法

    公开(公告)号:CN104977816B

    公开(公告)日:2018-01-23

    申请号:CN201510474805.4

    申请日:2015-08-05

    Abstract: 基于Compact Particle Swarm Optimization算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法,属于半导体制造装备技术领域及机械参数测量领域。为了解决现有工件台微动部分机械参数估计算法精度差的问题。所述方法包括如下步骤:步骤一:根据掩模台微动台的机械机构及其理论设计,建立微动台的理想运动学模型,确定待测机械参数,建立掩模台微动台含差模型;步骤二:步骤二:给定位置输入,驱动微动台运动产生位移,将实际输出位移与通过建立的掩模台微动台含差模型计算出的输出位移值做差,作为寻优的目标函数;步骤三:根据目标函数,利用Compact Particle Swarm Optimization优化学习算法确定待辨识的机械参数。它用于微动台的机械参数求取。

    高精度大量程电流电压的分级测量方法

    公开(公告)号:CN105021881B

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:CN201510465243.7

    申请日:2015-07-31

    Abstract: 高精度大量程电流电压的分级测量方法,属于弱电电流、电压信号的测量领域,本发明为解决现有技术无法完成大量程信号的高精度测量问题。本发明方法利用n个不同量程、不同精度的电流电压传感器对同一待测信号进行测量;并将n个电流电压传感器按测量精度由低到高的顺序进行排序依次测量待测信号;先由量程大、精度低的初级传感器开始测量并取结果中的精确部分,后通过电流电压基准源将实测信号中的已确定的精确部分进行补偿,并对剩余信号进行下一级的测量直至量程最小、精度最高的传感器测量结束,再进行数据融合,从而实现对弱电领域的大电流、大电压信号的高精度测量。

    一种三自由度光刻机双工件台框架气浮补偿方法

    公开(公告)号:CN104914683B

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201510353919.3

    申请日:2015-06-24

    Abstract: 一种三自由度光刻机双工件台框架气浮补偿方法,本发明属于光刻机双工件台框架运动控制的高精度控制定位的技术领域。它的方法步骤为:在框架的一个长边同一侧固定安装第一三角光传感器、第二三角光传感器,在框架的短边上固定安装第三三角光传感器;设传感器的测量值在初始值的基础上变化了△m1,△m2,△m3,利用△m1,△m2求角度θ;以第二三角光传感器为研究对象,计算三个运动对第二三角光传感器读数的影响;得出框架沿Y方向偏移的距离△Y,在X向偏移的距离△X;根据θ,△X,△Y的值进行电机给定补偿;补偿公转电机控制给定,补偿X/Y电机的控制给定。本发明可以实现光刻机双工件台的换台补偿,对于外界的对框架的干扰可以实时动态补偿宏动电机的控制给定,达到顺利换台的目的。

    基于差动测量的高精度气浮垂向调节机构

    公开(公告)号:CN104019940B

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201410277199.2

    申请日:2014-06-20

    Abstract: 基于差动测量的高精度气浮垂向调节机构,属于地面全物理仿真领域。为了解决在测量垂向运动机构测量气腔压力时压力传感器量程过大而带来的精度变差、非线性度及偏差相应增大的问题,所述气浮垂向调节机构由垂向运动机构、基准压力气腔、绝对压力传感器、相对压力传感器构成,垂向运动机构旁安置有基准压力腔,绝对压力传感器安置于基准压力腔内,垂向运动机构由垂向气浮轴承外套和垂向气浮轴承内套组成,垂向气浮轴承外套和垂向气浮轴承内套之间为垂向气腔,相对压力传感器安置于垂向气腔与基准压力腔之间。本发明在测量垂向运动机构绝对压力时采用基准压力腔绝对压力与相对压力叠加的方式,具有较高的测量精度,可达到较为良好的实验效果。

    基于双频激光干涉仪的垂向伺服机构测量装置及方法

    公开(公告)号:CN104029829B

    公开(公告)日:2016-02-17

    申请号:CN201410277196.9

    申请日:2014-06-20

    Abstract: 基于双频激光干涉仪的垂向伺服机构测量装置及方法,属于物理仿真领域。所述伺服机构测量装置包括气路部分、线性电机部分、传感器部分和垂向运动部分。本发明通过高压气瓶为内套筒腔部提供恒压气体,并通过气压控制器调节比例阀开度使外套筒部分得到重力补偿;通过外部工控机发送位置指令给控制器,控制器控制定子内部磁场实现垂向运动,驱动动子带动外套筒垂向运动;双频激光干涉仪实时测量当前位移量,并根据压力、温度、湿度测量单元测量的当前气压、温度、湿度对测量值实时校正,从而控制线性电机部分实现外套筒的高精度垂向运动。本发明具有控制方便、摩擦力小、行程长、精度高等优点。

    一种基于FPGA的BiSS-C通信协议方法

    公开(公告)号:CN105119907A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201510433632.1

    申请日:2015-07-22

    CPC classification number: H04L69/02

    Abstract: 一种基于FPGA的BiSS-C通信协议方法,本发明属于传感器与控制卡之间传输通信的技术领域。它的方法步骤一:FPGA模块的时钟信号MA通过RS422接口发送到外部光栅式传感器的时钟输入端;步骤二:时钟信号MA的上升沿触发外部光栅式传感器的数据信号发送;步骤三:FPGA模块判断每一帧数据信号的Start位是否为高电平和“0”位是否为低电平,如果不是,则继续等待下一帧数据,如果是,则每一个时钟MA的上升沿串口接收一位数据;步骤四:将完整的一帧数据存储到FPGA模块的双口RAM储存器内;步骤五:双口RAM储存器内的数据实时的传送到DSP模块内。本发明属于硬件解码,FPGA解码能实现数据通信和寄存器两种功能,既能完成通信,又能存储数据,存储的数据用于其他程序的处理。

    光刻机工件台的一体式平衡质量装置

    公开(公告)号:CN104991425A

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201510465244.1

    申请日:2015-07-31

    Abstract: 光刻机工件台的一体式平衡质量装置,属于半导体制造装备技术领域,本发明为解决现有光刻机平衡技术采用两个平衡质量块存在同步设计难度大的问题。本发明包括基础框架、平衡质量块、垂向气浮垫、Y向直线电机导轨部分、X向运动机构、平衡质量块直线电机部分六个部分。平衡质量块底面四个角上分别固定一个垂向气浮垫,用以通过气浮隔离底部的基础框架从而实现系统的隔振与低摩擦运动。平衡质量块上平面上安装两条Y向直线电机的导轨,作为Y向直线电机的定子部分,X向导轨部分安装在Y向直线电机导轨上,平衡质量块电机驱动平衡质量块运动,从而对由于X向导轨反作用力造成的平衡质量块的偏移进行补偿,使平衡质量块重新回到平衡位置。

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