一种气控两位三通阀
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113251208B

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202110525440.9

    申请日:2021-05-13

    Abstract: 一种气控两位三通阀,属于气控调节阀控制领域。解决了现有技术中的气控两位两通阀无法适用于更为复杂的应用场合的问题。本发明气控两位三通阀为三层结构,其由上至下依次为:阀体层、阀膜层和基底层,且阀膜层夹固在阀体层和基底层之间;阀体层下表面开设有1个气源流道和3个常闭流道;阀膜层上设有通孔;基底层上表面开设有两条非连通的控制流道,当控制气控两位三通阀的气压控制信号输入口无气压输入时,气源流道与第三常闭流道相通;当气控两位三通阀的气压控制信号输入口有气压输入时,气源流道与第二常闭流道相通,实现了气控两位三通阀的功能。本发明适用于对微量流体的控制。

    一种基于PDMS材料的常闭式气动压力开关

    公开(公告)号:CN113280187A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN202110547302.0

    申请日:2021-05-19

    Abstract: 一种基于PDMS材料的常闭式气动压力开关,属于微流控技术领域,具体涉及一种气动压力开关阀。解决了现有基于PDMS的微阀都需要通过外接控制气压,限制了基于PDMS微阀的使用范围及集成度的问题。本发明的PDMS薄膜设置在阀体和基底之间;阀体、PDMS薄膜和基底的形状相同;阀体侧面的中心开设有第一凹槽,所述阀体的中心固定有出气筒,所述阀体的中心还开有圆形通孔,所述圆形通孔与出气筒的固定端对应;出气筒的自由端高出阀体的底面;阀体的底面还开有第一气体流道,基底的顶面中心开有第二凹槽,基底的顶面还开有沿第二凹槽边缘向相对两侧延伸至基底边缘的第二气体流道。本发明适用于微流控技术领域。

    一种气控两位三通阀
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113251208A

    公开(公告)日:2021-08-13

    申请号:CN202110525440.9

    申请日:2021-05-13

    Abstract: 一种气控两位三通阀,属于气控调节阀控制领域。解决了现有技术中的气控两位两通阀无法适用于更为复杂的应用场合的问题。本发明气控两位三通阀为三层结构,其由上至下依次为:阀体层、阀膜层和基底层,且阀膜层夹固在阀体层和基底层之间;阀体层下表面开设有1个气源流道和3个常闭流道;阀膜层上设有通孔;基底层上表面开设有两条非连通的控制流道,当控制气控两位三通阀的气压控制信号输入口无气压输入时,气源流道与第三常闭流道相通;当气控两位三通阀的气压控制信号输入口有气压输入时,气源流道与第二常闭流道相通,实现了气控两位三通阀的功能。本发明适用于对微量流体的控制。

Patent Agency Ranking