公开(公告)号：CN104303317A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201380024603.9

申请日：2013-05-10

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 大内直子 ,  柿泽政彦 ,  鹤本浩之 ,  渡边照巳 ,  河原进士

IPC: H01L31/0236

CPC classification number: C09K13/02 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明涉及一种太阳能电池制造用碱性蚀刻液，其包含：(A)通式[1]表示的单磺酸或二磺酸或它们的盐、(B)碱性化合物和(C)水；另外涉及一种太阳能电池制造用硅系基板的制造方法，其特征在于，使用该蚀刻液对以硅为主要成分的晶片进行蚀刻，在该晶片的表面形成凹凸结构。{式中，p个R1各自独立地表示氢原子、羟基或碳原子数为1～10的烷基，q个M各自独立地表示氢原子、碱金属原子、铵(NH4)基或四烷基铵(R24N)基(式中，R2表示碳原子数为1～4的烷基)，n表示0或1，p和q各自独立地表示1或2。}