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公开(公告)号：CN111996506A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010761773.7
申请日：2020-07-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种高反射率高纯度X射线多层膜反射镜的制备方法及反射镜，该方法包括以下步骤：1)在磁控溅射镀膜真空腔内的样品架上放置基板，该基板的表面粗糙度小于0.3纳米；2)对磁控溅射镀膜真空腔进行抽真空后，向该真空腔内充入高纯氪气作为溅射气体以调节磁控溅射镀膜真空腔内的工作气压，使工作气压接近等离子体稳定启辉的最低临界值，工作过程中，氪气气压变化幅度小于5％；3)开启直流磁控溅射电源，进行钯靶材和碳化硼靶材的预溅射；4)控制装有基板的样品架交替停留在钯靶材和碳化硼靶材的溅射区域，完成制备。与现有技术相比，本发明能够有效降低靶材反溅效果，保障成膜质量，具有工艺重复性好、可控性强等优点。
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