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公开(公告)号:CN108122879B
公开(公告)日:2021-10-22
申请号:CN201710974099.9
申请日:2017-10-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/498 , H01L21/48 , H01L21/60 , H01L23/485
Abstract: 本揭露实施例涉及一种半导体装置,其包含:第一介电层,其具有第一表面;模制化合物,其安置于所述第一介电层的所述第一表面上;第二介电层,其具有安置于所述模制化合物上的第一表面;通路,其安置于所述模制化合物中;及第一导电凸块,其安置于所述通路上且由所述第二介电层包围;其中所述第一介电层及所述第二介电层由相同材料组成。填充材料具有介于所述第二介电层与所述半导体裸片之间的厚度,且所述孔的直径与所述填充材料的所述厚度成反比。
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公开(公告)号:CN109427730A
公开(公告)日:2019-03-05
申请号:CN201810545563.7
申请日:2018-05-25
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/498 , H01L23/485 , H01L21/60
Abstract: 一种集成扇出型封装包括第一重布线结构、管芯、包封体、多个导电结构及第二重布线结构。所述第一重布线结构具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面。所述管芯设置在所述第一重布线结构的所述第一表面上且与所述第一重布线结构电连接。所述包封体包封所述管芯。所述导电结构设置在所述第一重布线结构的所述第一表面上且穿透所述包封体。所述导电结构环绕所述管芯。所述第二重布线结构设置在所述包封体上且通过所述导电结构与所述第一重布线结构电连接。所述第二重布线结构包括实体接触所述包封体的至少一个导电图案层。
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公开(公告)号:CN108122879A
公开(公告)日:2018-06-05
申请号:CN201710974099.9
申请日:2017-10-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L23/498 , H01L21/48 , H01L21/60 , H01L23/485
Abstract: 本揭露实施例涉及一种半导体装置,其包含:第一介电层,其具有第一表面;模制化合物,其安置于所述第一介电层的所述第一表面上;第二介电层,其具有安置于所述模制化合物上的第一表面;通路,其安置于所述模制化合物中;及第一导电凸块,其安置于所述通路上且由所述第二介电层包围;其中所述第一介电层及所述第二介电层由相同材料组成。填充材料具有介于所述第二介电层与所述半导体裸片之间的厚度,且所述孔的直径与所述填充材料的所述厚度成反比。
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