公开(公告)号：CN105586614B

公开(公告)日：2017-08-08

申请号：CN201610156459.X

申请日：2016-03-18

Applicant: 厦门大学

Inventor： 杨防祖 ,  黄先杰 ,  闫慧 ,  黄帅帅 ,  田中群 ,  周绍民

IPC: C25D3/56 ,  C25D5/00

Abstract: 本发明公开了一种三价铁体系碱性溶液电沉积因瓦合金的电镀溶液及电镀方法，属于电沉积合金领域，涉及电沉积因瓦合金的电镀工艺，包括电镀液组成和电镀工艺参数。本发明所述的因瓦合金属于铁基高镍合金，通常含有32～36wt.％(质量分数)的镍。本发明采用含三价铁盐和混合络合剂的碱性溶液体系，结合特定的电镀工艺条件，从而电镀获得具有特定镍含量范围的因瓦合金。电镀液包括三价铁盐、镍盐、混合络合剂、缓冲剂、添加剂和润湿剂；电镀工艺参数为：温度40～65℃，pH 8.5～11.5，电流密度1.0～12.0A/dm2，搅拌方式为空气搅拌或机械搅拌。本发明可以电镀获得0.1～10μm均匀厚度、含镍量34～36％的因瓦合金镀层，外观平整光泽。

公开(公告)号：CN105586614A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201610156459.X

申请日：2016-03-18

Applicant: 厦门大学

Inventor： 杨防祖 ,  黄先杰 ,  闫慧 ,  黄帅帅 ,  田中群 ,  周绍民

IPC: C25D3/56 ,  C25D5/00

CPC classification number: C25D3/562 ,  C25D5/00

Abstract: 本发明公开了一种三价铁体系碱性溶液电沉积因瓦合金的电镀溶液及电镀方法，属于电沉积合金领域，涉及电沉积因瓦合金的电镀工艺，包括电镀液组成和电镀工艺参数。本发明所述的因瓦合金属于铁基高镍合金，通常含有32～36wt.％(质量分数)的镍。本发明采用含三价铁盐和混合络合剂的碱性溶液体系，结合特定的电镀工艺条件，从而电镀获得具有特定镍含量范围的因瓦合金。电镀液包括三价铁盐、镍盐、混合络合剂、缓冲剂、添加剂和润湿剂；电镀工艺参数为：温度40～65℃，pH8.5～11.5，电流密度1.0～12.0A/dm2，搅拌方式为空气搅拌或机械搅拌。本发明可以电镀获得0.1～10μm均匀厚度、含镍量34～36％的因瓦合金镀层，外观平整光泽。