公开(公告)号：CN103837708A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：CN201210492775.6

申请日：2012-11-27

Applicant: 厦门大学 ,  哈尔滨工业大学

Inventor： 詹东平 ,  韩联欢 ,  袁野 ,  胡振江 ,  曹永智 ,  赵学森 ,  闫永达 ,  田中群

IPC: G01Q30/00 ,  G01Q30/20 ,  G01C9/00

Abstract: 本发明提供了一种电化学体系中工件的水平检测装置、调平装置及调平方法。该水平检测装置包括：宏微位移平台；位移台，固设于宏微位移平台确定的X-Y平面上，可在该X-Y平面上进行位移，电解池与该位移台相对静止；探针电极，固设于宏微位移平台确定的Z方向上，其检测端浸入垂直向下进入电解池内的电解液中，距离电解池内的工件预设距离；以及电化学工作站，其工作电极连接至探针电极，其辅助电极和参比电极均连接浸入电解池内的电解液中，控制工作电极电位恒定，检测该工作电极随位移台的运动而变化的电流信号，获得电流信号曲线，由电流信号曲线的起伏幅度获知电解池内工件的倾斜程度。本发明可提高电解液中工件水平检测的精度。

公开(公告)号：CN103837708B

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：CN201210492775.6

申请日：2012-11-27

Applicant: 厦门大学 ,  哈尔滨工业大学

Inventor： 詹东平 ,  韩联欢 ,  袁野 ,  胡振江 ,  曹永智 ,  赵学森 ,  闫永达 ,  田中群

IPC: G01Q30/00 ,  G01Q30/20 ,  G01C9/00

Abstract: 本发明提供了一种电化学体系中工件的水平检测装置、调平装置及调平方法。该水平检测装置包括：宏微位移平台；位移台，固设于宏微位移平台确定的X-Y平面上，可在该X-Y平面上进行位移，电解池与该位移台相对静止；探针电极，固设于宏微位移平台确定的Z方向上，其检测端浸入垂直向下进入电解池内的电解液中，距离电解池内的工件预设距离；以及电化学工作站，其工作电极连接至探针电极，其辅助电极和参比电极均连接浸入电解池内的电解液中，控制工作电极电位恒定，检测该工作电极随位移台的运动而变化的电流信号，获得电流信号曲线，由电流信号曲线的起伏幅度获知电解池内工件的倾斜程度。本发明可提高电解液中工件水平检测的精度。

公开(公告)号：CN103325674B

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201310195128.3

申请日：2013-05-23

Applicant: 厦门大学

Inventor： 詹东平 ,  张杰 ,  田中群 ,  贾晶春 ,  韩联欢 ,  袁野 ,  田昭武

IPC: H01L21/3063 ,  B81C1/00 ,  C25F3/12

Abstract: 本发明提供了一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法，可在具有简单微结构的弹性模板电极上原位屈曲产生复杂多级微纳结构，同时利用约束刻蚀技术将其屈曲得到的复杂多级微纳结构批量复制到基底材料上。所述方法包括：弹性模板电极简单微结构的设计与制备，以使具有简单微结构的模板电极在屈曲时产生所需的复杂三维多级微纳结构；模板电极上应力屈曲的产生及其控制，以使模板电极可控地产生屈曲形变；屈曲结构的复制，利用约束刻蚀技术使模板电极上屈曲得到的多级微纳结构直接复制到刻蚀基底上。

公开(公告)号：CN103325674A

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201310195128.3

申请日：2013-05-23

Applicant: 厦门大学

Inventor： 詹东平 ,  张杰 ,  田中群 ,  贾晶春 ,  韩联欢 ,  袁野 ,  田昭武

IPC: H01L21/3063 ,  B81C1/00 ,  C25F3/12

Abstract: 本发明提供了一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法，可在具有简单微结构的弹性模板电极上原位屈曲产生复杂多级微纳结构，同时利用约束刻蚀技术将其屈曲得到的复杂多级微纳结构批量复制到基底材料上。所述方法包括：弹性模板电极简单微结构的设计与制备，以使具有简单微结构的模板电极在屈曲时产生所需的复杂三维多级微纳结构；模板电极上应力屈曲的产生及其控制，以使模板电极可控地产生屈曲形变；屈曲结构的复制，利用约束刻蚀技术使模板电极上屈曲得到的多级微纳结构直接复制到刻蚀基底上。