一种微小金属Ni掩膜图形精准控制的腐蚀液及使用方法

    公开(公告)号:CN115679326A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202211263976.9

    申请日:2022-10-17

    Inventor: 王立 李瑞

    Abstract: 本发明公开了一种用于MicroLED制备过程中GaN刻蚀的微小金属Ni掩膜图形精准控制的腐蚀液及使用方法,该腐蚀液配方由以下组分组成:浓硝酸、水、浓盐酸、双氧水,该四种组分的体积百分比为浓硝酸25‑30%:水60‑65%:浓盐酸4‑5%:双氧水4‑5%。该腐蚀液的使用方法为将上述体积百分比的浓硝酸、水和浓盐酸倒入烧杯中搅拌均匀,将GaN基外延片放入混合液中1‑2min,再向混合液中加入上述百分比的双氧水,腐蚀1‑2min后,制备出小于20μm金属Ni掩膜图形。本发明可以精准腐蚀出尺寸小于20μm的金属Ni掩膜图形,腐蚀后的图形完整,边界清晰,解决了微小金属Ni掩膜图形制备过程中,掩膜腐蚀速率过慢或者腐蚀速率过快造成腐蚀出有较多锯齿状的金属Ni掩膜图形的问题。

    一种微小金属Ni掩膜图形精准控制的腐蚀液及使用方法

    公开(公告)号:CN115679326B

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202211263976.9

    申请日:2022-10-17

    Inventor: 王立 李瑞

    Abstract: 本发明公开了一种用于MicroLED制备过程中GaN刻蚀的微小金属Ni掩膜图形精准控制的腐蚀液及使用方法,该腐蚀液配方由以下组分组成:浓硝酸、水、浓盐酸、双氧水,该四种组分的体积百分比为浓硝酸25‑30%:水60‑65%:浓盐酸4‑5%:双氧水4‑5%。该腐蚀液的使用方法为将上述体积百分比的浓硝酸、水和浓盐酸倒入烧杯中搅拌均匀,将GaN基外延片放入混合液中1‑2min,再向混合液中加入上述百分比的双氧水,腐蚀1‑2min后,制备出小于20μm金属Ni掩膜图形。本发明可以精准腐蚀出尺寸小于20μm的金属Ni掩膜图形,腐蚀后的图形完整,边界清晰,解决了微小金属Ni掩膜图形制备过程中,掩膜腐蚀速率过慢或者腐蚀速率过快造成腐蚀出有较多锯齿状的金属Ni掩膜图形的问题。

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