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公开(公告)号：CN114593821A
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202210082001.X
申请日：2022-01-24
Applicant: 南开大学
IPC: G01J4/00
Abstract: 本申请提供一种动态偏振度计及检测光的偏振态的方法。该动态偏振度计包括分光元件、检测元件、第一探测器、第二探测器和控制模块。其中，分光元件用于将入射光分为第一光束和第二光束；检测元件具有超构表面，设置于第二光束的光路上；第二光束透射超构表面后形成待检测透射光；第一探测器设置于第一光束的光路上，用于检测第一光束的功率；第二探测器设置于待检测透射光的光路上，用于检测待检测透射光的功率；控制模块包括数据处理单元，对测得的第一光束的功率和待检测透射光的功率进行处理得到入射光的偏振态参数。该偏振度计采用具有超构表面的检测元件使得装置体积小，结构简单，检测精度高。
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公开(公告)号：CN112067559B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN201910500995.0
申请日：2019-06-11
Applicant: 南开大学
Abstract: 本申请涉及一种材料光学常数的确定方法、材料数据库的扩展方法及装置。所述材料光学常数的确定方法，包括获取椭偏测试参数向量，利用机器学习模型得出与所述椭偏测试参数向量对应的材料光学常数。所述机器学习模型包括椭偏测试参数向量和材料光学常数之间的映射关系。所述材料光学常数的确定方法利用所述机器学习模型实现对椭偏测试参数向量的自动化拟合。所述材料光学常数的确定方法使用的机器学习模型计算出材料的光学常数，不再依赖实验人员的经验，降低了对操作人员的要求，并且计算材料的光学常数时加快了数据曲线的拟合速度、提高了运算效率。
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公开(公告)号：CN104807761A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510236181.2
申请日：2015-05-08
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明公开了一种可实现微区光谱测量的光谱仪设计方法，其包括以下步骤：(1)利用成像系统将待测量样品成像至区域选择小孔板的平面内；(2)小孔区域内的光线穿过小孔进入光谱分析元件进行光谱分析与测量；(3)小孔区域外部的光线被小孔板上的高反射膜反射，并经由一半透半反镜反射；(4)半透半反镜的反射光由一成像透镜成像至图像记录元件(如CCD)平面；(5)通过移动样品位置，可对需要测量的不同区域成像至小孔内进行光谱分析测量该光谱仪可独立使用或联合显微镜使用。本发明利用小孔实现测量区域的选择，可以实现对于尺寸达微米甚至纳米量级样品的透射、反射、吸收及荧光光谱的测量。
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公开(公告)号：CN104807416A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510236182.7
申请日：2015-05-08
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微结构阵列的光学应变传感器设计及制造方法，首先在弹性体基底材料表面进行镀膜，利用微纳米加工方法在基底材料上制备具有光谱特征峰的微结构阵列；将制备好的器件固定在被测样品表面，利用光谱仪测量样品在形变前后及形变过程中的光谱，最终利用光谱特征峰的变化计算样品的形变量。本发明的微结构阵列光学应变传感器可以测量微小区域内形变量，且具有测量灵敏度高、检测速度快的优势。
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公开(公告)号：CN110749552B
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201911213678.7
申请日：2019-12-02
Applicant: 南开大学
Abstract: 本申请涉及一种确定材料二阶非线性极化率的系统及方法。确定材料二阶非线性极化率的系统包括激光光源、偏振调制器、光线收集器、偏振探测器和控制器。所述控制器可以根据所述测试数据得出所述待测试样品的二阶非线性极化率。所述确定材料二阶非线性极化率的系统既可以直接测试百纳米级厚度的材料，又可以根据所述光学系统的测试结果绘制材料二阶非线性极化率拟合曲线。进一步，所述确定材料二阶非线性极化率的系统可以通过材料二阶非线性极化率拟合曲线得出不同的二阶非线性极化参数之间的比值关系和相位关系，避免了对绝对效率的多次测量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105319737B
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201510801179.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: G02F1/01
Abstract: 本发明涉及一种光学非线性偏振调控元件，其中，其包括：一绝缘透明基底；一设置于该绝缘透明基底的一表面的金属等离子激元层，所述等离子激元层包括多个周期设置的具有手性的微结构；以及一设置于该金属等离子激元层远离该绝缘透明基底的表面且将该金属等离子激元层覆盖的折射率可调控薄膜，所述折射率可调控薄膜包括折射率在光照下可调控的材料。一种调控入射光波偏振的方法，其包括：在某一时间内，采用一偏振入射光和一调控光同时从所述折射率可调控薄膜一侧照射如上述任意一项所述的光学非线性偏振调控元件。采用本发明的光学非线性偏振调控元件可以实现对偏振光的全光式调控。该方法具有方法简单，响应速度快的优点。
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公开(公告)号：CN107244669A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201710461601.6
申请日：2017-06-14
Applicant: 南开大学
IPC: C01B32/194 , B82Y30/00
Abstract: 本发明公开了一种激光诱导石墨烯微纳结构的加工方法及其系统，本方法首先制备氧化物‑石墨烯‑基底材料三明治结构样品；其次，样品通过激光直写系统进行加工；超过阈值光强的区域内石墨烯在激光诱导下和氧化物发生碳热还原反应而被破坏，其他部分的石墨烯则不会被破坏得以保留，从而形成石墨烯微纳结构。本发明方法及系统操作简单，不需要借助掩模板进行曝光，避免了离子束加工中二次溅射的问题，能实现高精度的石墨烯结构及图案的加工，加工分辨率可通过激光光斑大小和激光能量调控，有利于复杂结构石墨烯图案的快速加工及高质量石墨烯结构器件的制备，可广泛的推广应用。
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公开(公告)号：CN104807416B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201510236182.7
申请日：2015-05-08
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微结构阵列的光学应变传感器设计及制造方法，首先在弹性体基底材料表面进行镀膜，利用微纳米加工方法在基底材料上制备具有光谱特征峰的微结构阵列；将制备好的器件固定在被测样品表面，利用光谱仪测量样品在形变前后及形变过程中的光谱，最终利用光谱特征峰的变化计算样品的形变量。本发明的微结构阵列光学应变传感器可以测量微小区域内形变量，且具有测量灵敏度高、检测速度快的优势。
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公开(公告)号：CN105319737A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510801179.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 南开大学
IPC: G02F1/01
CPC classification number: G02F1/0136
Abstract: 本发明涉及一种光学非线性偏振调控元件，其中，其包括：一绝缘透明基底；一设置于该绝缘透明基底的一表面的金属等离子激元层，所述等离子激元层包括多个周期设置的具有手性的微结构；以及一设置于该金属等离子激元层远离该绝缘透明基底的表面且将该金属等离子激元层覆盖的折射率可调控薄膜，所述折射率可调控薄膜包括折射率在光照下可调控的材料。一种调控入射光波偏振的方法，其包括：在某一时间内，采用一偏振入射光和一调控光同时从所述折射率可调控薄膜一侧照射如上述任意一项所述的光学非线性偏振调控元件。采用本发明的光学非线性偏振调控元件可以实现对偏振光的全光式调控。该方法具有方法简单，响应速度快的优点。
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公开(公告)号：CN119126399A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202410789635.8
申请日：2024-06-19
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及超构表面技术领域，具体公开了一种基于堆叠莫尔超构表面的非线性光束整形方法，包括：获取基频光的倍频波长和非线性光束的目标发射角；计算得到堆叠莫尔超构表面的莫尔晶格准周期；计算得到堆叠莫尔超构表面的晶格周期和扭曲角度的对应关系；获取具有所述对应关系的堆叠莫尔超构表面；基频光照射到堆叠莫尔超构表面上形成非线性光束，所述非线性光束的发射角的值为所述目标发射角。本发明根据非线性光束的目标发射角，计算堆叠莫尔超构表面的晶格周期和扭曲角度的对应关系，制造具有不同晶格周期和扭曲角度的堆叠莫尔超构表面，通过多个基本超构表面的倒易晶格向量的组合，形成了丰富的动量分量，从而精确调制非线性光束。
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