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公开(公告)号：CN114043375B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202111440718.9
申请日：2021-11-30
Applicant: 南京金瑞立丰硬质材料科技有限公司
Abstract: 本发明公开了蓝宝石芯片抛光领域的，一种蓝宝石芯片研磨、抛光供液装置，包括底座，所述底座顶端转动连接有旋转盘，所述旋转盘顶端固定连接有支撑轴，所述支撑轴顶端转动连接有抛光架，所述抛光架顶端和底座顶端共同设置有升降抛光机构。本发明通过设置清洗机构和过滤孔，利用倾斜的抛光架，当抛光座运动到最左端时，进行抛光，当抛光座偏离左端后，抛光液通过过滤孔流入到抛光座内，当运动到最右端时，在清洗机构的作用下，可以喷射水对芯片表面进行清洗，从而将芯片表面固体颗粒进行清理，并且通过第一密封板和支撑机构，及时密封过滤孔和排走芯片表面的水，避免抛光液被稀释，降低抛光效果。
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公开(公告)号：CN114043375A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202111440718.9
申请日：2021-11-30
Applicant: 南京金瑞立丰硬质材料科技有限公司
Abstract: 本发明公开了蓝宝石芯片抛光领域的，一种蓝宝石芯片研磨、抛光供液系统及装置，包括底座，所述底座顶端转动连接有旋转盘，所述旋转盘顶端固定连接有支撑轴，所述支撑杆顶端转动连接有抛光架，所述抛光架顶端和底座顶端共同设置有升降抛光机构。本发明通过设置清洗机构和过滤孔，利用倾斜的抛光架，当抛光座运动到最左端时，进行抛光，当抛光座偏离左端后，抛光液通过过滤孔流入到抛光座内，当运动到最右端时，在清洗机构的作用下，可以喷射水对芯片表面进行清洗，从而将芯片表面固体颗粒进行清理，并且通过第一密封板和支撑机构，及时密封过滤孔和排走芯片表面的水，避免抛光液被稀释，降低抛光效果。
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公开(公告)号：CN216759492U
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202122854092.8
申请日：2021-11-19
Applicant: 南京金瑞立丰硬质材料科技有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种宝石芯片、衬底片研磨液回收装置，涉及芯片技术领域，包括研磨盘、收集槽、过滤器，研磨盘上设有均匀排列的研磨槽，研磨槽下端固定设有阻挡槽，阻挡槽设有废液通孔，收集槽上端与研磨盘下端密闭接触，研磨盘固定设有移动柱，收集槽内设有研磨垫板，收集槽下端固定设有渗液槽，渗液槽下端设有倾斜弧面，渗液槽底端固定连接有排液管，排液管固定连接有过滤器，渗液槽上端设有过滤层，过滤层一侧通过卡槽与收集槽可拆卸相连，过滤层上端固定连接有支撑架，支撑架顶端固定设有提拉板。本实用新型可实现研磨液的循环利用，在同时对多个芯片研磨时防止产生的粉末对管道堵塞，防止研磨时研磨液飞溅，方便清理，适合推广。
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