咔唑基聚合物及其制备方法、晶体管存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN116693820A

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202310793367.2

    申请日:2023-06-30

    Abstract: 本发明公开了一种咔唑基聚合物及其制备方法、晶体管存储器及其制备方法。咔唑基聚合物的结构通式为:其中,n为1~100中的自然数,R1选自氢、苯基和烷基链中的任意一种;R2选自氢、具有1到8个碳原子的直链、具有1到8个碳原子的支链、具有1到8个碳原子的环状烷基链和具有1到8个碳原子的烷氧基中的任意一种;选自中的任意一种;选自中的任意一种。本发明提供的咔唑基聚合物分子具有多个活性位点,具有很好的拓展性,可对分子进行多种扩展,提供了一种探寻OFET存储器存在的存储机制与分子结构之间关系的有效途径;同时,咔唑基聚合物的合成方式简单,与COFs、MOFs相比,咔唑基聚合物材料可大面积溶液加工,降低了生产成本。

    一类苯并二噻吩衍生物及其制备和应用

    公开(公告)号:CN116199707B

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202310209593.1

    申请日:2023-03-07

    Abstract: 本发明公开一类苯并二噻吩衍生物及其制备和应用,属于有机存储和信息技术领域。该类衍生物是在苯并二噻吩结构上键连接三异丙基乙炔基硅后制得,所得化合物具有大的共轭平面以及电荷云密度,且具有良好的π–π堆积性能,与三异丙基乙炔基硅结合可进一步抑制电荷泄漏,阻挡载流子的流失,从而可提高电荷的存储稳定性和耐受性,因而适于制备有机场效应晶体管存储器。本申请将该类苯并二噻吩衍生物作为OFET存储器的电荷俘获层,由于苯并二噻吩具有电荷俘获位点,所以当给器件施加电压,在电场的作用下,电子或者空穴从半导体层隧穿进入到存储层,就会更加容易被俘获,有助于提升器件的存储性能。

    一类苯并二噻吩衍生物及其制备和应用

    公开(公告)号:CN116199707A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202310209593.1

    申请日:2023-03-07

    Abstract: 本发明公开一类苯并二噻吩衍生物及其制备和应用,属于有机存储和信息技术领域。该类衍生物是在苯并二噻吩结构上键连接三异丙基乙炔基硅后制得,所得化合物具有大的共轭平面以及电荷云密度,且具有良好的π–π堆积性能,与三异丙基乙炔基硅结合可进一步抑制电荷泄漏,阻挡载流子的流失,从而可提高电荷的存储稳定性和耐受性,因而适于制备有机场效应晶体管存储器。本申请将该类苯并二噻吩衍生物作为OFET存储器的电荷俘获层,由于苯并二噻吩具有电荷俘获位点,所以当给器件施加电压,在电场的作用下,电子或者空穴从半导体层隧穿进入到存储层,就会更加容易被俘获,有助于提升器件的存储性能。

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