垂直结构红光Micro-LED及其制备方法

    公开(公告)号:CN119730493A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411933987.2

    申请日:2024-12-26

    Abstract: 本发明属于半导体光电子器件技术领域,具体涉及一种垂直结构红光Micro‑LED及其制备方法;所述红光Micro‑LED包括自下而上依次设置的p型电极、Si衬底、键合金属层、Ni/Ag反射层、p型GaN层、p‑AlGaN电子阻挡层、InGaN/GaN多量子阱层、InGaN/GaN超晶格层、n型GaN层和n型电极;其中,所述p型GaN层、p‑AlGaN电子阻挡层、InGaN/GaN多量子阱层、InGaN/GaN超晶格和n型GaN层构成红光Micro‑LED的p‑n结。本发明实现了高亮度垂直结构红光Micro‑LED,在高分辨率显示和裸眼3D显示等众多领域具有广泛的应用前景。

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