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公开(公告)号：CN115786874A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211427974.9
申请日：2022-11-15
Applicant: 南京大学
IPC: C23C16/27 , C23C16/455
Abstract: 一种基于双气流的高效掺杂HFCVD设备,包括反应腔、气体导入结构，气体导入结构包括四路气体管道，上、下两个进气口；第一路气体管道通入的是反应气体，第二路气体管道通入的是载气，第一、第二两路气体管道的气体混合后从第一进气管通过上进气口即导入到反应腔，上进气口位于反应腔的顶部中心位置；上进气口与基片台中间设有热丝；第三路气体管道通入的是掺杂气体，第四路气体管道通入的是载气，两路气体混合后从第二进气管通过下进气口导入反应腔，下进气口位于基片台下方的中心位置，形状为喇叭状，上、下进气口和基片台的正投影面呈同心结构。本发明有效提高金刚石薄膜生长中掺杂气体的利用效率，实现金刚石薄膜样品中的高效掺杂。
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