一种PTFE基PCB覆铜板的覆铜方法

    公开(公告)号:CN108859326B

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN201810578705.X

    申请日:2018-06-07

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种PTFE基PCB覆铜板的覆铜方法,包括:首先在半固化片上下两面分别平铺上FEP或PFA薄膜,再放置于上铜板和下铜板之间对齐连接,再将相同尺寸大小的两片铜箔置于上下两个薄膜表面的最外层;然后放置于热压机中,以适当的温度、压力和时间压合各层形成覆铜板,使板材之间结合紧密。本发明通过一片半固化片、两片FEP或PFA薄膜和两片铜箔的叠放、热压处理,得到铜片与半固化片附着强度明显提升的PTFE基PCB覆铜板,为5G时代对高频覆铜板的高性能要求打下基础。

    一种纳米陶瓷填充PCB覆铜板半固化片的制备方法

    公开(公告)号:CN108822493B

    公开(公告)日:2020-06-16

    申请号:CN201810503288.2

    申请日:2018-05-23

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种纳米陶瓷填充PCB覆铜板半固化片的制备方法,包括:先将一定比例的固化剂、促进剂和溶剂搅拌均匀得到透明溶液,然后在加入一定比例的树脂,搅拌一段时间后,使得树脂完全溶解;加入粒径为1‑10纳米的SiO2、MgO、Al2O3和CaO陶瓷粉体混合物,然后进行高速搅拌,从而使纳米陶瓷在环氧树脂中分布均匀;最后再通过玻纤布沉浸上胶、烘干等步骤,制备PTFE基的PCB覆铜板半固化片。本发明通过在环氧树脂中加入一定比例的纳米陶瓷粉体,并使陶瓷颗粒与环氧树脂混合均匀,大大提高覆铜板半固化片的均一性及热性能,对5G时代高频PCB覆铜板的应用具有重要作用。

    一种低介电常数低损耗高频陶瓷基板材料的制备方法

    公开(公告)号:CN108341662A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201810340446.7

    申请日:2018-04-17

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种低介电常数低损耗高频陶瓷基板材料的制备方法,包括如下步骤:根据比例配置好原料,然后加入酒精进行球磨混料;将球磨后的浆液放入烘箱中进行烘干;烘干研磨后的粉料加入固化剂继续进行研磨,充分混合并磨碎磨细,干压成型得到生坯;将生坯放入炉子里面烧结得到氧化铝陶瓷板材料。本发明加入钴元素来降低介电常数,制作工艺简单,成本低,操作周期短,无毒无害无污染,且制作出来的陶瓷电路板经过SEM测试,致密性能好,通过矢量网络分析仪测试介电性能和低损耗都能满足5G情况下的频率要求,是理想的高频电路板基板材料。

    一种纳米陶瓷填充PCB覆铜板半固化片的制备方法

    公开(公告)号:CN108822493A

    公开(公告)日:2018-11-16

    申请号:CN201810503288.2

    申请日:2018-05-23

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种纳米陶瓷填充PCB覆铜板半固化片的制备方法,包括:先将一定比例的固化剂、促进剂和溶剂搅拌均匀得到透明溶液,然后在加入一定比例的树脂,搅拌一段时间后,使得树脂完全溶解;加入粒径为1-10纳米的SiO2、MgO、Al2O3和CaO陶瓷粉体混合物,然后进行高速搅拌,从而使纳米陶瓷在环氧树脂中分布均匀;最后再通过玻纤布沉浸上胶、烘干等步骤,制备PTFE基的PCB覆铜板半固化片。本发明通过在环氧树脂中加入一定比例的纳米陶瓷粉体,并使陶瓷颗粒与环氧树脂混合均匀,大大提高覆铜板半固化片的均一性及热性能,对5G时代高频PCB覆铜板的应用具有重要作用。

    一种纳米二氧化硅中空微球的制备方法

    公开(公告)号:CN101549871B

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN200910026742.0

    申请日:2009-05-05

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 一种纳米二氧化硅中空微球的制备方法,本发明的特征在于,以烷基酚聚氧乙烯醚为乳化剂,首先形成一种水/油乳液体系,然后加入能溶于油相的二氧化硅前驱体,氨水催化下前驱体在水-油界面发生水解缩聚反应,经一定时间反应并经后处理后,制得壳层厚度均匀且具有足够强度的纳米二氧化硅中空微球。

    一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机

    公开(公告)号:CN117778973A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311735719.5

    申请日:2023-12-18

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明涉及一种多温区卷绕式磁控溅射镀膜机,包括线性磁控溅射靶(4)、卷料盒(7)、多温区衬底温控装置(8),衬底材料通过所述卷料盒(7)在磁控溅射镀膜机内传输。磁控溅射镀膜机腔体内设有若干个衬底温控装置(8),通过设置多温区衬底温控装置(8)的温度,可以实现衬底在不同区域的温度控制,进而实现多温区薄膜生长的有效控制;本发明能够在卷绕式磁控溅射镀膜机中实现多温区的控制,从而实现每层温度单独精确可控的多层膜电子材料的连续生长,提高溅射镀膜的多样性与可控性,有效提高电子材料与器件的性能和生产效率。

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