公开(公告)号：CN110079779A

公开(公告)日：2019-08-02

申请号：CN201910298530.1

申请日：2019-04-15

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 肖舒 ,  石科军 ,  周池楼 ,  吴昊 ,  陈国华 ,  童煜凯 ,  郑益然

IPC: C23C14/48 ,  C23C14/58

Abstract: 本发明公开了一种高性能陶瓷涂层及其制备方法与应用，所述制备方法主要针对陶瓷涂层的传统镀制方法存在的材料可控性差、膜基结合强度低、难以在复杂的工件表面形成均匀涂层的问题，提出使用金属离子注入与气体离子渗相结合的复合技术进行制备。具体包括以下步骤：（1）对基体进行预处理，然后采用金属离子注入在基体表面注入金属离子，形成金属涂层；（2）通过气体离子渗在步骤（1）的金属涂层表面渗入N、C或O离子，原位生成所述高性能陶瓷涂层。通过此方法制备的陶瓷涂层与基底的结合强度高，涂层成分可控，基材适用性广，且能够在复杂的工件表面均匀沉积。

公开(公告)号：CN109972108A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201910298372.X

申请日：2019-04-15

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 肖舒 ,  石科军 ,  周池楼 ,  吴昊 ,  陈国华 ,  童煜凯 ,  郑益然

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08 ,  C23C14/32 ,  C23C14/48 ,  C23C14/18 ,  C23C14/58 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明公开了一种纳米结构陶瓷涂层及其原位制备方法与应用，所述制备方法包括以下步骤：1.对基体进行预处理，然后通过PVD在真空室中通入反应性气体，在基体表面形成陶瓷涂层；2.通过离子注入在陶瓷涂层表面均匀地向陶瓷涂层中注入金属元素，得到金属离子注入层，所述金属元素与陶瓷涂层中金属元素中的主要成分相同，并通过退火形成氮化物或氧化物，原位生成所述纳米结构陶瓷涂层。该技术可操作性强、可控性好，可以通过控制离子注入层的厚度控制纳米结构的形状，并控制其疏水性能，技术可实现性强，适用于Zn等金属薄膜在氧化或者氮化过程中出现体积收缩的材料。

公开(公告)号：CN308881155S

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202430141113.8

申请日：2024-03-19

Applicant: 华南理工大学

Designer： 童煜凯 ,  张卫国 ,  代诗语 ,  龚正夫 ,  王超 ,  陈浩智

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：散热架（分布式图数据库服务器结构）。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品是一种用于给服务器散热的散热架。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。