-
公开(公告)号：CN114318309A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111583567.2
申请日：2021-12-22
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开一种基于旋涂法制备的MXene涂层及其在阻氢过程中的应用。该方法为：将MXene悬浮液稀释为MXene胶体溶液；将线切割获得的基体抛光清洁后置于匀胶机托片上，在其表面滴加MXene胶体溶液进行旋涂，在空气中风干得到涂层；将涂层放入电化学氢渗透测试装置中，阳极池无涂层侧加入瓦特镀镍液镀镍；镀镍后将阳极池的溶液更换为NaOH溶液，施加正恒定电位记录阴极侧的电流密度变化；电流稳定后，在阴极池加入电解液，加载电流开始充氢。本发明采用旋涂法制备MXene涂层，该方法操作简单、重复性高、可用于工业化大规模生产，制备的MXene涂层厚度可控、具有良好的阻氢性能，在阻氢涂层领域具有工业应用潜力。
-
公开(公告)号：CN113072063A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202010666175.1
申请日：2020-07-10
Applicant: 华南理工大学
IPC: C01B32/186
Abstract: 一种基于氢储运设备内表面的阻氢涂层及制备方法，该制备方法包括以下步骤：步骤S10，将基体的表面进行逐级打磨抛光并清洗风干后，通过PIII&D沉积技术在基体的表面上注入与沉积催化金属离子，以得到从下往上依序层叠的沉积催化金属层和注入层；步骤S11，采用PECVD方法在注入层的表面原位生长出石墨烯涂层。本发明制备的石墨烯涂层与膜基之间结合力高，阻氢效果良好，能够更好地实现低温常压大面积制备，降低生产成本，且在工件内外表面都可以实现均匀沉积，适用于氢储运设备内表面石墨烯涂层的工业制备。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109972108A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201910298372.X
申请日：2019-04-15
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种纳米结构陶瓷涂层及其原位制备方法与应用，所述制备方法包括以下步骤：1.对基体进行预处理，然后通过PVD在真空室中通入反应性气体，在基体表面形成陶瓷涂层；2.通过离子注入在陶瓷涂层表面均匀地向陶瓷涂层中注入金属元素，得到金属离子注入层，所述金属元素与陶瓷涂层中金属元素中的主要成分相同，并通过退火形成氮化物或氧化物，原位生成所述纳米结构陶瓷涂层。该技术可操作性强、可控性好，可以通过控制离子注入层的厚度控制纳米结构的形状，并控制其疏水性能，技术可实现性强，适用于Zn等金属薄膜在氧化或者氮化过程中出现体积收缩的材料。
-
公开(公告)号：CN110079779A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910298530.1
申请日：2019-04-15
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种高性能陶瓷涂层及其制备方法与应用，所述制备方法主要针对陶瓷涂层的传统镀制方法存在的材料可控性差、膜基结合强度低、难以在复杂的工件表面形成均匀涂层的问题，提出使用金属离子注入与气体离子渗相结合的复合技术进行制备。具体包括以下步骤：（1）对基体进行预处理，然后采用金属离子注入在基体表面注入金属离子，形成金属涂层；（2）通过气体离子渗在步骤（1）的金属涂层表面渗入N、C或O离子，原位生成所述高性能陶瓷涂层。通过此方法制备的陶瓷涂层与基底的结合强度高，涂层成分可控，基材适用性广，且能够在复杂的工件表面均匀沉积。
-
公开(公告)号：CN113072063B
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202010666175.1
申请日：2020-07-10
Applicant: 华南理工大学
IPC: C01B32/186
Abstract: 一种基于氢储运设备内表面的阻氢涂层及制备方法，该制备方法包括以下步骤：步骤S10，将基体的表面进行逐级打磨抛光并清洗风干后，通过PIII&D沉积技术在基体的表面上注入与沉积催化金属离子，以得到从下往上依序层叠的沉积催化金属层和注入层；步骤S11，采用PECVD方法在注入层的表面原位生长出石墨烯涂层。本发明制备的石墨烯涂层与膜基之间结合力高，阻氢效果良好，能够更好地实现低温常压大面积制备，降低生产成本，且在工件内外表面都可以实现均匀沉积，适用于氢储运设备内表面石墨烯涂层的工业制备。
-
公开(公告)号：CN111826612B
公开(公告)日：2021-06-22
申请号：CN202010667014.4
申请日：2020-07-10
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 一种基于氢储运装备内表面的阻氢涂层及制备方法，该制备方法包括以下步骤：步骤S10，将基体的表面进行逐级打磨抛光并清洗风干后，通过PIII&D沉积技术在基体的表面上注入与沉积Ni离子，以得到从下往上依序层叠的沉积Ni层和注入层；步骤S11，在注入层的表面均匀地注入C离子，得到富含C离子的注入C层；步骤S12，对形成注入C层的试样进行退火处理，以使注入C层的表面偏析生长出石墨烯涂层。本发明提供的技术方案可操作性强、可控性好，通过该方法制备的石墨烯涂层与基体之间的结合强度高，阻氢性能良好，通过控制C离子注入量可以控制石墨烯涂层的厚度，技术可实现性强，适用于表面不能直接生长石墨烯的结构材料。
-
公开(公告)号：CN111826612A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010667014.4
申请日：2020-07-10
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 一种基于氢储运装备内表面的阻氢涂层及制备方法，该制备方法包括以下步骤：步骤S10，将基体的表面进行逐级打磨抛光并清洗风干后，通过PIII&D沉积技术在基体的表面上注入与沉积Ni离子，以得到从下往上依序层叠的沉积Ni层和注入层；步骤S11，在注入层的表面均匀地注入C离子，得到富含C离子的注入C层；步骤S12，对形成注入C层的试样进行退火处理，以使注入C层的表面偏析生长出石墨烯涂层。本发明提供的技术方案可操作性强、可控性好，通过该方法制备的石墨烯涂层与基体之间的结合强度高，阻氢性能良好，通过控制C离子注入量可以控制石墨烯涂层的厚度，技术可实现性强，适用于表面不能直接生长石墨烯的结构材料。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.017 seconds)
