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公开(公告)号:CN1619259A
公开(公告)日:2005-05-25
申请号:CN200410061275.2
申请日:2004-12-06
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种柔性传感器的制作方法,步骤为:制作刚性传感器;在刚性传感器的晶片前表面上旋涂一层10-15μm厚的聚酰亚胺,再甩20-30μm厚的光刻胶;晶片后表面被深刻蚀减至60-80μm厚,形成硅岛;在后表面沉积一层300-500nm厚的氮化硅,光刻成形后,刻蚀硅片直到金属层;然后采用反应离子刻蚀方法刻蚀步骤(4)沉积的氮化硅;旋涂另一层10-15μm厚的聚酰亚胺于后表面来覆盖硅岛,即获得传感器可以卷曲起来,并广泛应用于非平面表面。柔性传感器制作成创可贴式的,随意贴于人体皮肤上,也可以运用于飞行器的控制领域。柔性传感器作为一个的新发展领域,将大大促进MEMS传感器的应用前景和应用范围。