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公开(公告)号：CN103217385A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310094643.2
申请日：2013-03-22
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明公开了一种评估椭偏仪测量系统的随机误差的方法。该方法首先建立椭偏仪测量系统的系统模型和系统传递函数，然后通过分析椭偏仪测量系统的随机噪声的来源及特点，建立适用于具体配置类型椭偏仪测量系统的随机噪声模型，最后根据传递函数和随机噪声模型，推导随机噪声的传递模型，从而计算评估系统的随机误差。评估仪器随机误差的一般方法是进行多次测量，然后根据多次测量结果的分布情况评估测量系统的随机误差，本发明方法通过建立随机噪声模型和计算随机噪声传递特性，可以在一次测量中评估椭偏仪测量系统的随机误差。适用于现有多种配置类型的椭偏仪测量系统。
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公开(公告)号：CN103063412A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201210552014.5
申请日：2012-12-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于光学测量仪器样品台校准的系统及方法。在椭偏仪直通式的情况下进行光路系统的对准，包括前光路和后光路的对准；在椭偏仪斜入射式粗调样品台上的旋钮，使得检偏臂光学接收器孔能够接受到一部分光束；微调样品台上的旋钮，使表示光束的十字光标出现在中心位置；以l为步长令系统前部和系统后部在Z轴方向上进行扫描，并记录在每个高度位置时探测器接受到的总光强，绘制出一条光强曲线，系统自动选取光强值最大点处为样品台最优相对高度位置。系统主要包括光源，起偏臂，前置四象限探测器，检偏臂，分光镜，内置四象限探测器，CCD探测器和计算机。该方法可以实现对样品台的倾斜角度及高度进行高精确校准，且响应快速，操作简单。
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公开(公告)号：CN111366087B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010275953.4
申请日：2020-04-09
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明涉及光学薄膜测量技术领域，特别涉及一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置，包括：光路组件、载物组件及机架组件，载物组件设置在机架组件上；光路组件连接在机架组件上；光路组件用于对载物组件上的薄膜进行光学测量。本发明提供的可局部测量的显微成像膜厚测量装置，光源可同时作为测量光源和照明光源，不仅能发出测量光束，同时能提供对测量区域标记的光束，不需要另外设置照明光源，可避免对测量光源带来杂散光，提高了测量结果的准确性。
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公开(公告)号：CN111426275B
公开(公告)日：2021-12-28
申请号：CN202010276441.X
申请日：2020-04-09
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明涉及光学测量技术领域，特别涉及一种薄膜的测量方法，通过将黑样件放在样品台上，测量反射率谱为0的黑样件反射光强谱；将厚度已知的测量样件放在样品台上进行测量，利用光谱仪获取标准样件的反射光强谱；测量标准样件时对应的黑样光强；找到局部测量区域后关闭照明光源，利用光谱仪获取待测样件的反射光强谱；计算待测样件的实际测量反射率谱；假定待测样件的膜厚序列，通过计算获取相对应的反射率谱序列；通过表达拟合程度，拟合程度最佳时所对应的厚度d为待测样件膜厚。本发明提供的薄膜的测量方法，可实现对样品的局部区域精确测量。
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公开(公告)号：CN103424797B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310321074.0
申请日：2013-07-26
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明公开了一种四分之一双波片相位延迟器，可在紫外、可见及近红外的波段范围内实现消色差，其特征在于，该双波片相位延迟器由两个同种材料或者不同材料的四分之一零级波片构成，该两零级波片沿光轴平行布置，且两光轴夹角为45°，其中，所述两个四分之一零级波片的中心波长在波段范围内，且满足使得两零级波片组成的双波片在该波段范围内各波长点对应的相位延迟量δe(λ)与理想相位延迟量值π/2之间差值的最大值取得最小值。与现有的双波片相比，该相位延迟器将两个零级波片光轴按45°组合，而不是90°，得到的双波片相位延迟器在全波段内有更好的消色差等特性，能够满足光谱椭偏测量等宽光谱光学系统的使用要求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103134592B
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201310040729.7
申请日：2013-01-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J3/447
Abstract: 本发明公开了一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法，方法是将起偏臂产生的调制光线投射到待测样件表面，检偏臂将待测样件反射(或透射)的光线解调并接收，通过对测量光谱进行谐波分析，计算获得待测样件的全穆勒矩阵信息，并通过非线性回归，库匹配等算法拟合提取待测样件的光学常数，特征形貌尺寸等信息。椭偏仪包括起偏臂(包括光源，透镜组，起偏器和伺服电机驱动的补偿器)，待测样件和检偏臂(包括伺服电机驱动的补偿器，检偏器，透镜组和光谱仪)。本发明可实现各种信息光电子功能材料和器件，以及纳米制造中各种纳米结构的在线测量，具有非破坏性，快速和低成本的特点。
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公开(公告)号：CN103163077A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201310040730.X
申请日：2013-01-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种用于旋转器件型光谱椭偏仪系统参数的校准方法，该方法可以在一次测量中获取旋转器件型光谱椭偏仪中全光谱范围的系统参数，其方法是将任意厚度的标准样件作为待测样件，使用待校准光谱椭偏仪进行测量，对测量获得的光强谐波信号进行傅里叶分析，通过傅里叶系数序列计算获取第一个波长点的系统参数，以其作为初值，采用非线性回归算法，通过理论光谱拟合测量光谱，获得第一个波长点的系统参数。并依次以校准获得的第i个波长点的系统参数作为初值，拟合获得第i+1个波长点的系统参数，进而获得全光谱范围的系统参数。该方法具有计算速度快，校准精度高的特点，并且可以在校准系统参数后用于其它待测样件的测量而不必重复校准。
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公开(公告)号：CN111426275A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN202010276441.X
申请日：2020-04-09
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明涉及光学测量技术领域，特别涉及一种薄膜的测量方法，通过将黑样件放在样品台上，测量反射率谱为0的黑样件反射光强谱；将厚度已知的测量样件放在样品台上进行测量，利用光谱仪获取标准样件的反射光强谱；测量标准样件时对应的黑样光强；找到局部测量区域后关闭照明光源，利用光谱仪获取待测样件的反射光强谱；计算待测样件的实际测量反射率谱；假定待测样件的膜厚序列，通过计算获取相对应的反射率谱序列；通过表达拟合程度，拟合程度最佳时所对应的厚度d为待测样件膜厚。本发明提供的薄膜的测量方法，可实现对样品的局部区域精确测量。
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公开(公告)号：CN109580054A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811448151.8
申请日：2018-11-30
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01L1/24
Abstract: 本发明属于应力检测领域，并公开了一种透明物体应力测量仪及其方法。该测量仪包括底座和设置在底座上方的波片和检偏镜，底座用于放置待测量的样件，该底座内部设置有光源、匀光板和起偏镜，匀光板设置在光源上方，用于将光源发出的光均匀化，起偏镜设置中匀光板上方，用于将从匀光板出射的光转化为线偏振光；波片设置在待测量样件的上方，从匀光板出射的线偏振光经待测量样件后转化为椭圆偏振光，波片用于将该椭圆偏振光重新转化为线偏振光，检偏镜设置在波片上方，其通过旋转寻找将待测量样件置于底座上后检偏镜中的消光态，其旋转的角度即为所需测量的角度。通过本发明，操作简便、测量快捷，测量光路简洁，整体结构紧凑，适用范围广。
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公开(公告)号：CN103471992B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201310396574.0
申请日：2013-09-03
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种应用到光谱椭偏仪中的氙灯光线光强平滑处理装置及方法。该光强平滑处理装置包括准直透镜、汇聚透镜和光阑，准直透镜为消色差透镜，用于将待处理的氙灯光线准直为平行光束；汇聚透镜为单透镜，用于将平行光束汇聚聚焦，汇聚后的光斑大小随波长的增加而增大；光阑设置在汇聚透镜后并间隔一定波长焦距位置处，通过设定该光阑的大小使紫外波段的光斑可透过该光阑而可见到近红外波段的光斑被阻挡，从而减小可见到近红外波段的光束光强，实现平滑。本发明还公开了一种氙灯光线光强平滑处理方法。本发明没有损失任何波段的光线，探测器或者光谱仪可以正常响应全光谱范围的光线，从而可以光谱椭偏仪从紫外到近红外全光谱范围内的高精度测量。
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