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公开(公告)号:CN115459038A
公开(公告)日:2022-12-09
申请号:CN202211201526.7
申请日:2022-09-29
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于可见光激光领域,具体涉及蓝光泵浦产生639、721nm双波长激光的方法和装置,包括:采用蓝光泵浦源产生蓝光,通过4F系统,准直聚焦至位于谐振腔内的工作晶体上,产生639nm和721nm双波长激光输出;其中,工作晶体设置在谐振腔的光腰处,谐振腔为临界腔,对639nm和721nm的透射率为3%‑7%;谐振腔的输出镜表面法线与入射光线的夹角满足:由该夹角所影响的639nm和721nm处因菲涅尔反射引起的腔内往返损耗大小,能够使得谐振腔在639nm和721nm处的阈值泵浦功率比值为1;蓝光泵浦源的泵浦光功率大于阈值泵浦功率;4F系统满足聚焦至工作晶体上的光束平均光斑小于工作光平均光斑。本发明有效弥补双波长可见光激光器在639nm和721nm处的空白。
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公开(公告)号:CN115459038B
公开(公告)日:2025-01-07
申请号:CN202211201526.7
申请日:2022-09-29
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01S3/04 , H01S3/08018 , H01S3/081
Abstract: 本发明属于可见光激光领域,具体涉及蓝光泵浦产生639、721nm双波长激光的方法和装置,包括:采用蓝光泵浦源产生蓝光,通过4F系统,准直聚焦至位于谐振腔内的工作晶体上,产生639nm和721nm双波长激光输出;其中,工作晶体设置在谐振腔的光腰处,谐振腔为临界腔,对639nm和721nm的透射率为3%‑7%;谐振腔的输出镜表面法线与入射光线的夹角满足:由该夹角所影响的639nm和721nm处因菲涅尔反射引起的腔内往返损耗大小,能够使得谐振腔在639nm和721nm处的阈值泵浦功率比值为1;蓝光泵浦源的泵浦光功率大于阈值泵浦功率;4F系统满足聚焦至工作晶体上的光束平均光斑小于工作光平均光斑。本发明有效弥补双波长可见光激光器在639nm和721nm处的空白。
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