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公开(公告)号：CN118042656B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410291985.1
申请日：2024-03-14
Applicant: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所) , 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种用于蓝宝石窗口的电加热膜及其制备方法，电加热膜包括依次设置在蓝宝石窗口上的基于图案设计的结合层、导电层和连接层以及镀制在所述蓝宝石窗口的空白区域以及连接层之上的保护层。该电加热膜的透明波段宽，光学透过率高，且降低了对光学成像系统的影响。
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公开(公告)号：CN117966133B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410332733.9
申请日：2024-03-22
Applicant: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所) , 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光学窗口低应力疏水保护薄膜及其制备方法，光学窗口低应力疏水保护薄膜包括基片和依次设置在基片上的低应力类金刚石层和氟碳疏水层。该疏水保护薄膜具有良好的光学性能、疏水性能以及机械性能，且环境适应性强。
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公开(公告)号：CN118042656A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202410291985.1
申请日：2024-03-14
Applicant: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所) , 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种用于蓝宝石窗口的电加热膜及其制备方法，电加热膜包括依次设置在蓝宝石窗口上的基于图案设计的结合层、导电层和连接层以及镀制在所述蓝宝石窗口的空白区域以及连接层之上的保护层。该电加热膜的透明波段宽，光学透过率高，且降低了对光学成像系统的影响。
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公开(公告)号：CN117872677A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202410275870.3
申请日：2024-03-12
Applicant: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所) , 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜的制备方法，包括如下步骤：S1.对基底表面进行清洗；S2.在基底表面先后形成负性光刻胶层和正性光刻胶层；S3.使用真空接触式掩膜曝光技术，曝光随机结构金属网栅图案并显影，使正性光刻胶层和负性光刻胶层上分别形成上下连通的纵截面为倒梯形的第一显影窗口和纵截面为矩形的第二显影窗口，第二显影窗口的宽度大于第一显影窗口底面的宽度，使第一显影窗口和第二显影窗口的纵截面呈倒“T”型；S4.在显影后的基底表面镀制金属薄膜，并剥离，得到随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜。该制备方法能在大面积的任意形状平面基底上制备线宽2μm的随机结构金属网栅，制备精度高。
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公开(公告)号：CN117966133A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410332733.9
申请日：2024-03-22
Applicant: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所) , 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种光学窗口低应力疏水保护薄膜及其制备方法，光学窗口低应力疏水保护薄膜包括基片和依次设置在基片上的低应力类金刚石层和氟碳疏水层。该疏水保护薄膜具有良好的光学性能、疏水性能以及机械性能，且环境适应性强。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115710686A
公开(公告)日：2023-02-24
申请号：CN202211572790.1
申请日：2022-12-08
Applicant: 湖北久之洋红外系统股份有限公司 , 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
Abstract: 本发明公开了一种高附着力Cu薄膜电极，由下至上依次为光学基片、电加热膜、过渡连接层、Cu薄膜；所述过渡连接层采用金属铬膜，厚度为12nm～15nm；本发明所得金属薄膜电极具有优良牢固度，和光学基片表面膜层的附着力优良；可以实现膜层焊接不穿孔脱落、电阻值低，易于在其表面采用焊接的方式连接引线，且多次通电稳定可靠，环境适应性好；形状和轮廓可以根据设计要求进行定制，设计合适结构的镀膜治具即可实现各种形状金属薄膜电极的镀制。
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公开(公告)号：CN115710686B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202211572790.1
申请日：2022-12-08
Applicant: 湖北久之洋红外系统股份有限公司 , 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所)
Abstract: 本发明公开了一种高附着力Cu薄膜电极，由下至上依次为光学基片、电加热膜、过渡连接层、Cu薄膜；所述过渡连接层采用金属铬膜，厚度为12nm～15nm；本发明所得金属薄膜电极具有优良牢固度，和光学基片表面膜层的附着力优良；可以实现膜层焊接不穿孔脱落、电阻值低，易于在其表面采用焊接的方式连接引线，且多次通电稳定可靠，环境适应性好；形状和轮廓可以根据设计要求进行定制，设计合适结构的镀膜治具即可实现各种形状金属薄膜电极的镀制。
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公开(公告)号：CN117702052A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311725334.0
申请日：2023-12-15
Applicant: 华中光电技术研究所(中国船舶集团有限公司第七一七研究所) , 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种耐压型蓝宝石窗口三波段增透膜及其制备方法，制备方法包括如下步骤：蓝宝石基片的镀膜前准备及离子刻蚀清洗；离子束溅射交替镀制二氧化硅和氧化钽：开启双离子源，主离子源：束压1150V~1250V，束流850A~950A，加速电压350V~450V，次离子源：束压240V~260V，束流180A~220A，加速电压480V~520V，靶材氧气流量：二氧化硅沉积时28sccm~32sccm，氧化钽沉积时38sccm~42sccm；镀膜结束后，进行热处理；离子刻蚀后镀制全氟聚醚聚合物膜层。本发明的方法显著提升了增透膜的耐压性能，使得膜层对于海洋环境的适应性提升。
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公开(公告)号：CN109182969B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201811002458.5
申请日：2018-08-30
Applicant: 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明公开了中波红外光学硬质保护膜的制备方法。该方法包括基片清洗、过渡层的制备、光学匹配层的制备、保护层的制备、真空退火处理等步骤。通过本方法制备的硬质保护膜系在中波红外3‑5μm波段的平均透过率不低于93％，经微纳米压痕测试的硬度值不低于18GPa，弹性模量不低于160GPa。并根据GJB150.A要求的环境筛选试验进行了试验，硬质保护膜系一次性通过了环境筛选试验，验证了其良好的环境适应性能。
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公开(公告)号：CN113774325A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202110941846.5
申请日：2021-08-17
Applicant: 湖北久之洋红外系统股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种抗砂尘的高硬度多光谱氮化铝膜系的制备方法，包括以下步骤：1)光学元件清洗；2)将清洗好的光学元件作为基底，在其上镀制光学过渡匹配层，该光学过渡匹配层包括多层膜系结构，在700nm～1000nm、1064nm及3.7μm～4.8μm波段均具有高光学透过率；3)在光学过渡匹配层上制备高硬度、多光谱氮化铝薄膜。本发明有效提升了其光学透过率，且提升了抗砂尘侵蚀性能。
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