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公开(公告)号:CN104569064A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201510062429.8
申请日:2015-02-06
Applicant: 北京邮电大学
IPC: G01N27/00
Abstract: 本发明实施例公开了一种石墨烯气体传感器及其制备方法。该方法首先在衬底上依次沉积牺牲层和应变薄膜,接着,直接在应变薄膜上制备石墨烯层或将已制备好的石墨烯层转移至应变薄膜上,通过光刻和腐蚀形成台面,同时将牺牲层暴露出来;然后在石墨烯层上继续沉积金属电极;最后,侧向腐蚀掉牺牲层,使得应变薄膜与衬底脱离自卷曲成管,从而得到附着在管内壁上的卷曲石墨烯气体传感器。该石墨烯气体传感器对多种气体分子都具有较高的灵敏度且为三维结构,器件尺寸小,制备方法简单,适于大批量、低成本制备。此外,直径可调控的管状结构不仅提供了待测气体的天然输运通道,还可与其它片上微纳功能单元集成构筑芯片实验室。
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公开(公告)号:CN104569064B
公开(公告)日:2017-02-01
申请号:CN201510062429.8
申请日:2015-02-06
Applicant: 北京邮电大学
IPC: G01N27/00
Abstract: 本发明实施例公开了一种石墨烯气体传感器及其制备方法。该方法首先在衬底上依次沉积牺牲层和应变薄膜,接着,直接在应变薄膜上制备石墨烯层或将已制备好的石墨烯层转移至应变薄膜上,通过光刻和腐蚀形成台面,同时将牺牲层暴露出来;然后在石墨烯层上继续沉积金属电极;最后,侧向腐蚀掉牺牲层,使得应变薄膜与衬底脱离自卷曲成管,从而得到附着在管内壁上的卷曲石墨烯气体传感器。该石墨烯气体传感器对多种气体分子都具有较高的灵敏度且为三维结构,器件尺寸小,制备方法简单,适于大批量、低成本制备。此外,直径可调控的管状结构不仅提供了待测气体的天然输运通道,还可与其它片上微纳功能单元集成构筑芯片实验室。
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公开(公告)号:CN104555899B
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201410795565.3
申请日:2014-12-18
Applicant: 北京邮电大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明提出一种借助金属纳米颗粒缩小自卷曲微米管直径的方法,包括步骤:在衬底上,或在虚拟衬底上沉积缓冲层;在缓冲层上沉积牺牲层;在牺牲层上沉积应变薄膜;进行第一次光刻和腐蚀,使应变薄膜形成台面,使牺牲层暴露出来;进行第二次光刻,利用光刻胶形成图形窗口;沉积金属薄膜,高温退火使得金属薄膜形成金属纳米颗粒;对牺牲层进行侧向腐蚀,使得表面覆盖有金属纳米颗粒的应变薄膜自卷曲成管。本发明可在不改变薄膜厚度和应变下,仅借助金属纳米颗粒就能显著缩小自卷曲微米管的直径,可以容易地制备出直径在1微米附近的自卷曲微米管,甚至直径低至几百纳米的纳米管及其规则阵列,同时可保证微米管或纳米管具有优良的机械特性和结构特性。
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公开(公告)号:CN104555899A
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201410795565.3
申请日:2014-12-18
Applicant: 北京邮电大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明提出一种借助金属纳米颗粒缩小自卷曲微米管直径的方法,包括步骤:在衬底上,或在虚拟衬底上沉积缓冲层;在缓冲层上沉积牺牲层;在牺牲层上沉积应变薄膜;进行第一次光刻和腐蚀,使应变薄膜形成台面,使牺牲层暴露出来;进行第二次光刻,利用光刻胶形成图形窗口;沉积金属薄膜,高温退火使得金属薄膜形成金属纳米颗粒;对牺牲层进行侧向腐蚀,使得表面覆盖有金属纳米颗粒的应变薄膜自卷曲成管。本发明可在不改变薄膜厚度和应变下,仅借助金属纳米颗粒就能显著缩小自卷曲微米管的直径,可以容易地制备出直径在1微米附近的自卷曲微米管,甚至直径低至几百纳米的纳米管及其规则阵列,同时可保证微米管或纳米管具有优良的机械特性和结构特性。
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