-
公开(公告)号:CN110144555A
公开(公告)日:2019-08-20
申请号:CN201910549811.X
申请日:2019-06-24
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明涉及一种铍材表面氮化钛(TiN)膜层及其制备方法,该方法采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层,属于表面处理技术领域。本发明实现了在铍材表面制备大厚度(厚度25微米-50微米以上、高结合强度(拉拔结合强度大于8kg/mm2、膜层不脱落)、高硬度(HV2500以上)的TiN硬质膜层。本发明采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层,膜层厚度大、与基体结合良好、附着强度高、硬度高,能够显著提高铍材表面综合性能。
-
公开(公告)号:CN113699486A
公开(公告)日:2021-11-26
申请号:CN202110845593.1
申请日:2021-07-26
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明提供了一种铍材表面硬质复合膜及其制备方法,所述硬质复合膜由下至上依次包括厚度0.5μm~2.5μm的钛层、厚度12μm~22μm的氮化钛膜层、厚度0.1μm~1μm的钛层、以及厚度0.1μm~0.6μm的类金刚石膜层,类金刚石膜层为硬质复合膜的最上层。采用真空阴极电弧离子镀技术在铍材表面制备硬质复合膜,膜层结构致密、与基体结合良好、附着力高,能够显著提高铍基体表面硬度和耐摩擦磨损性能,且该方法具有良好的稳定性和可重复性。
-
公开(公告)号:CN110144555B
公开(公告)日:2021-07-13
申请号:CN201910549811.X
申请日:2019-06-24
Applicant: 北京航天控制仪器研究所
Abstract: 本发明涉及一种铍材表面氮化钛(TiN)膜层及其制备方法,该方法采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层,属于表面处理技术领域。本发明实现了在铍材表面制备大厚度(厚度25微米‑50微米以上、高结合强度(拉拔结合强度大于8kg/mm2、膜层不脱落)、高硬度(HV2500以上)的TiN硬质膜层。本发明采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层,膜层厚度大、与基体结合良好、附着强度高、硬度高,能够显著提高铍材表面综合性能。
-
-