公开(公告)号：CN110144555B

公开(公告)日：2021-07-13

申请号：CN201910549811.X

申请日：2019-06-24

Applicant: 北京航天控制仪器研究所

Inventor： 闫春和 ,  崔砚 ,  王长青 ,  刘冰洋 ,  腾海涛 ,  肖健 ,  齐岩 ,  郭子忠

IPC: C23C14/32 ,  C23C14/16 ,  C23C14/06

Abstract: 本发明涉及一种铍材表面氮化钛(TiN)膜层及其制备方法，该方法采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层，属于表面处理技术领域。本发明实现了在铍材表面制备大厚度(厚度25微米‑50微米以上、高结合强度(拉拔结合强度大于8kg/mm2、膜层不脱落)、高硬度(HV2500以上)的TiN硬质膜层。本发明采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层，膜层厚度大、与基体结合良好、附着强度高、硬度高，能够显著提高铍材表面综合性能。

公开(公告)号：CN110144555A

公开(公告)日：2019-08-20

申请号：CN201910549811.X

申请日：2019-06-24

Applicant: 北京航天控制仪器研究所

Inventor： 闫春和 ,  崔砚 ,  王长青 ,  刘冰洋 ,  腾海涛 ,  肖健 ,  齐岩 ,  郭子忠

IPC: C23C14/32 ,  C23C14/16 ,  C23C14/06

Abstract: 本发明涉及一种铍材表面氮化钛(TiN)膜层及其制备方法，该方法采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层，属于表面处理技术领域。本发明实现了在铍材表面制备大厚度(厚度25微米-50微米以上、高结合强度(拉拔结合强度大于8kg/mm2、膜层不脱落)、高硬度(HV2500以上)的TiN硬质膜层。本发明采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层，膜层厚度大、与基体结合良好、附着强度高、硬度高，能够显著提高铍材表面综合性能。