公开(公告)号：CN111964866A

公开(公告)日：2020-11-20

申请号：CN202010881420.0

申请日：2020-08-27

Applicant: 北京理工大学珠海学院

Inventor： 邓建杰 ,  江佳俊 ,  江鸿沛 ,  曾峙翔 ,  袁世嘉 ,  张静 ,  薛竣文 ,  游泳

IPC: G01M9/06 ,  G02B17/06 ,  G02B27/14

Abstract: 本申请涉及一种基于纹影法的多维成像系统及方法，该系统包括至少两个点光源装置、至少两片分束镜、至少两面抛物面镜和成像装置；其中：各点光源装置的发射光束分别经过一面抛物面镜形成反射光束，并使各反射光束交汇以形成有效测量区域，且各发射光束的光路经过该有效测量区域；各反射光束交汇后分别通过一片分束镜汇聚于成像装置，以形成纹影图像。上述系统从多个维度成像在同一成像装置上，提高了纹影图像的空间分辨率。

公开(公告)号：CN213902814U

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN202120066805.1

申请日：2021-01-11

Applicant: 北京理工大学珠海学院

Inventor： 江鸿沛 ,  张冬洁 ,  曾峙翔 ,  袁世嘉 ,  江佳俊 ,  江鸿泉 ,  黄洁 ,  张上灏

IPC: G01M9/06 ,  G01N21/41

Abstract: 本实用新型公开了一种暗场成像装置，发光件、第一平面反射件、第二平面反射件、第一凹面反射件、第二凹面反射件、第一分光元件、第二分光元件、刀口，所述发光件、所述第一平面反射件、所述第一凹面反射件依次设置为出射光路，且第一凹面反射件、第一平面反射件、第一分光元件设置为回射光路；第一分光元件位于发光件与第一平面反射件之间，所述刀口位于所述第一分光元件的分光方向上；且第二凹面反射件、第二平面反射件、第二分光元件设置为回射光路；所述刀口位于所述第二分光元件的分光方向上，第一分光元件的分光方向与第二分光元件的分光方向对应设置。本实用新型的特点是能够实现多维度成像，且成像精度较高。