公开(公告)号：CN213902814U

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN202120066805.1

申请日：2021-01-11

Applicant: 北京理工大学珠海学院

Inventor： 江鸿沛 ,  张冬洁 ,  曾峙翔 ,  袁世嘉 ,  江佳俊 ,  江鸿泉 ,  黄洁 ,  张上灏

IPC: G01M9/06 ,  G01N21/41

Abstract: 本实用新型公开了一种暗场成像装置，发光件、第一平面反射件、第二平面反射件、第一凹面反射件、第二凹面反射件、第一分光元件、第二分光元件、刀口，所述发光件、所述第一平面反射件、所述第一凹面反射件依次设置为出射光路，且第一凹面反射件、第一平面反射件、第一分光元件设置为回射光路；第一分光元件位于发光件与第一平面反射件之间，所述刀口位于所述第一分光元件的分光方向上；且第二凹面反射件、第二平面反射件、第二分光元件设置为回射光路；所述刀口位于所述第二分光元件的分光方向上，第一分光元件的分光方向与第二分光元件的分光方向对应设置。本实用新型的特点是能够实现多维度成像，且成像精度较高。