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公开(公告)号：CN100447556C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200410102514.4
申请日：2004-12-24
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法：首先将被测样品置入电极穴中；选定对应值的大电容并入控制电路中；充入氩气并启动光源发生装置，激发高能量大火花，在高能量大火花下激励样品使之辐射。一种实现该方法的新光源设备，包括光源发生装置及其一对发射电极，光源发生装置内置的控制电路包括：一电源，其一路输出接至两阻隔高频保护电源电感的一端，该电感的另一端并入一大电容；电源的另一路输出接高压变压器，高压变压器的次级线圈再接至电感可调的高频变压器，高频变压器的次级线圈一端经保护电路接至分析间隙的一端，其另一端接至分析间隙的另一端。该设备还配有一带有上下气孔的旋流气室，在旋流气室的两相对侧各开一进气口。
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公开(公告)号：CN1796983A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200410102514.4
申请日：2004-12-24
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种发射光谱分析稀有金属中碳、硫、磷的方法：首先将被测样品置入电极穴中；选定对应值的大电容并入控制电路中；充入氩气并启动光源发生装置，激发高能量大火花，在高能量大火花下激励样品使之辐射。一种实现该方法的新光源设备，包括光源发生装置及其一对发射电极，光源发生装置内置的控制电路包括：一电源，其一路输出接至两阻隔高频保护电源电感的一端，该电感的另一端并入一大电容；电源的另一路输出接高压变压器，高压变压器的次级线圈再接至电感可调的高频变压器，高频变压器的次级线圈一端经保护电路接至分析间隙的一端，其另一端接至分析间隙的另一端。该设备还配有一带有上下气孔的旋流气室，在旋流气室的两相对侧各开一进气口。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101769833A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200810247481.0
申请日：2008-12-31
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种光谱标准配制方法，该方法包括以下步骤：(1)以纯碳粉为基体，以碳标中所含金属杂质元素计算，向其中加入相应杂质元素氧化物，配制1wt％的主标准点，然后用纯碳粉依次冲稀得到一系列碳标；(2)将所要分析的样品分别与步骤(1)中的一系列碳标及纯碳粉按重量比1∶1混合，制得一套样品标准和样品空白；将样品标准和样品空白磨成粉末并混合均匀进行摄谱；测量分析线的黑度S，用S-logC绘制工作曲线；用直线拉直法分析低含量元素，用计算法估算较高含量杂质。本发明利用普适标准-碳标，得到一套样品分析用标准，完全适合日常合金样品中杂质的分析，不受样品基体的限制，也无需各种化工工艺提纯光谱基体，该标准稳定性好，分析结果误差小，因而简单、方便，应用范围广泛。
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公开(公告)号：CN101769861A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200810247480.6
申请日：2008-12-31
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种铪酸镧中杂质的光谱分析方法，该方法包括：(1)以样品标准中各单质元素含量为1wt％计算各单质相应氧化物的质量并称量，其总质量为X，称取为样品标准4wt％的碳粉，二者混合后形成碳标，向该碳标中加入质量为Y的铪酸镧，其中X+Y为样品标准的90wt％，再加入为样品标准6wt％的光谱载体AgCl和Ga2O3，得到样品标准，AgCl与Ga2O3的质量比为2∶1；(2)按照步骤(1)配制各单质元素的含量为0.1～0.0001wt％的样品标准；(3)称取90重量份的铪酸镧样品及4重量份的碳粉，4重量份的AgCl和2重量份的Ga2O3混合得到样品空白；(4)对所得样品标准和样品空白进行摄谱；测量分析线的黑度S，用S-logC绘制工作曲线；用直线拉直法与计算法确定分析结果，该方法不受样品基体形式的限制，减少了光谱分析条件的干扰，提高了分析的精确度。
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公开(公告)号：CN1721837A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200410069321.3
申请日：2004-07-16
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 一种易挥发主体中微量杂质的光谱分析法，该方法包括下述步骤：(1)用纯碳粉加入所要测的目标杂质的氧化物，配制不同目标杂质含量的碳标样；(2)样品与纯碳粉及步骤(1)所得到的碳标样分别按重量比例1∶1混匀，装入电极穴，压紧待摄谱；(3)进行光谱分析；(4)进行直线拉直法，求出增量值，即为样品中杂质含量；或者，通过公式C0＝(Ci×Io)/(Ii－Io)进行计算分析法，求出增量值，即为样品中杂质含量。或者，两种增量结合应用能得到更准确度的结果。本发明的方法适用于易挥发主体，如Sn、In、ITO、Zn、Pb、Bi、Sb、Cd、Cu等。本发明的方法应用范围广，而且不用考虑第三元素影响，提高了分析的准确度和可靠性。
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公开(公告)号：CN2769882Y
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200420120102.9
申请日：2004-12-23
Applicant: 北京有色金属研究总院
IPC: G01N21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种光谱分析用旋流气室，包括带有上下气孔的气氛控制室本体，在气氛控制室的两相对侧各开一进气口切向进入Ar气。在气氛控制室的非进气口侧设一石英窗。采用该旋流气室可将通入的Ar气形成涡流进气，由电极周围出气，消除了以往直通式气氛控制箱的弊端，产生一种高效的气氛控制效果。
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公开(公告)号：CN2760548Y
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200420120103.3
申请日：2004-12-23
Applicant: 北京有色金属研究总院
Abstract: 本实用新型公开了一种发射光谱分析新光源装置，由内置控制电路的电控箱构成，所述的控制电路包括：一电源，电源一路输出接至两阻隔高频保护电感的一端，两阻隔高频保护电感的另一端并入一大电容；电源的另一路输出接高压变压器，高压变压器的次级线圈再接至电感可调的高频变压器，高频变压器的次级线圈一端经保护电路的电容、电阻接至分析间隙的一端，另一端接至分析间隙的另一端。
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