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公开(公告)号:CN106918588A
公开(公告)日:2017-07-04
申请号:CN201510993521.6
申请日:2015-12-25
Applicant: 北京有色金属研究总院
CPC classification number: G01N21/66 , G01N1/286 , G01N1/44 , G01N2001/2866
Abstract: 本发明涉及一种超高纯石墨粉中痕量杂质的发射光谱分析方法。该方法包括如下步骤:(1)不完全燃烧:称取超高纯石墨粉样品,置于石英坩埚中,将石英坩埚放置马弗炉中,燃烧以逐渐除去石墨基体至余量,停止燃烧,冷却后取出,准确称量燃烧剩余的试料,并将其置于四氟研钵中研磨均匀后待用;(2)发射光谱分析:将所得燃烧剩余的试料加入石墨电极中进行发射光谱分析。本发明采取了石墨基体的不完全燃烧法,将残留的杂质富集在燃烧剩余的石墨基体中,研磨均匀后直接进行粉末法发射光谱分析,大大降低了分析方法的测定下限,可进行5N甚至更高纯度石墨粉中的痕量杂质分析,方法简单易行。