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公开(公告)号：CN114353965B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202011059643.5
申请日：2020-09-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种黑体辐射源及其温度控制方法、温度控制设备，所述黑体辐射源包括黑体腔以及加热模块；所述黑体腔包括：侧壁、腔底以及开口端，所述侧壁的一端位于所述开口端，所述侧壁的另一端与所述腔底连接；其中，所述开口端与所述腔底相向设置；所述加热模块包括：第一加热部以及至少一个第二加热部；其中，所述第一加热部一体成型于所述腔底的内部，至少一个所述第二加热部一体成型于所述侧壁的内部；所述第一加热部以及第二加热部分别用于向所述黑体腔的侧壁以及腔底提供热能以均匀加热所述黑体腔。通过本发明的黑体辐射源可以实现腔体内部温度一致且均匀，能够较精准的对光谱辐射测量仪器进行量值溯源。
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公开(公告)号：CN110926620B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201811092252.6
申请日：2018-09-19
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种基于单晶硅基底的红外靶标及其制作方法、保护结构，红外靶标包括单晶硅基底，单晶硅基底的厚度为100μm，单晶硅基底上设置有镂空图形，单晶硅基底的反射面上设置有高反射率膜，高反射率膜上设置有保护膜；采用单晶硅作为基底，使其在镂空图形的加工过程中不会产生表面变形，并且便于抛光和镀膜，不产生塑性变形，保证靶标表面的平整度。
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公开(公告)号：CN116124298A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202111337935.5
申请日：2021-11-12
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/061
Abstract: 本发明提供一种冷却结构和设计方法，包括方型锥塔结构、均热板结构和导热带，所述的导热带一端连接热源，另一端与连接均热板；所述的均热板结构上表面与导热带连接，下表面设置n个方型锥塔安装座，所述的方型锥塔安装座用于安装方型锥塔结构，所述的方型锥塔结构与需要冷却的结构连接。本发明通过导热带、压板、均热板、方型锥塔结构，可将导热带一端的冷量均匀的传递到超大黑体面上，保持黑体温场均匀性，实现有点到面的冷却(加热)设计。
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公开(公告)号：CN114674439A
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202011433400.3
申请日：2020-12-10
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01J5/00
Abstract: 本发明公开了一种面源黑体装置及其制造方法，装置包括面源黑体，所述面源黑体包括呈矩阵排列的多个黑体单元，相邻的黑体单元之间通过凹凸结构进行拼接；解决现有技术中面源黑体口径较大导致原材料获取难、加工、安装难度大的问题；黑体单元采用凹凸结构进行拼接，解决了拼缝辐亮度不一致的问题。
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公开(公告)号：CN114577065A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202011388585.0
申请日：2020-12-02
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供一种用于红外场景模拟的激励源、模拟装置及模拟方法。所述激励源包括：激光器、准直单元、数字微镜阵列以及成像单元；其中，所述激光器用于输出激光并提供至所述准直单元；所述准直单元用于接收所述激光并输出平行光；所述数字微镜阵列用于接收所述平行光后生成相应的图像并将所述图像反射至所述成像单元中；所述成像单元用于将所述图像投影至微辐射阵列上以使微辐射阵列根据所述图像产生相应的红外场景。通过本发明公开的用于红外场景模拟的激励源，使用激光光源作为微辐射阵列的激励源可以有效提升激励能量，使得有足够强的光能用于红外动态场景模拟，提高后续红外仿真测试信噪比，可以有效减少仿真误差，提升仿真精度并提升均匀性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114370941A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202011095295.7
申请日：2020-10-14
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供一种双色中波红外辐射模拟源、模拟系统及其模拟方法，所述模拟源包括：多组红外光源组件，每组红外光源组件用于提供不同波段的第一红外光束或第二红外光束；辐射强度调节组件，设置于多组所述红外光源组件的正前方；控制组件，连接多组所述红外光源组件以及辐射强度调节组件，所述控制组件用于控制所述红外光源组件以及辐射强度调节组件以调节所述第一红外光束和/或第二红外光束的辐射强度。通过控制多组红外光源组件进行辐射强度的粗调、通过辐射强度调节组件对辐射强度的细调以及对辐射波段的选择，最大程度的模拟典型目标的红外辐射特性，从而能够极大地提高红外成像系统的标定精度与准确度，保证对武器系统的性能的准确评价。
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公开(公告)号：CN114353965A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202011059643.5
申请日：2020-09-30
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种黑体辐射源及其温度控制方法、温度控制设备，所述黑体辐射源包括黑体腔以及加热模块；所述黑体腔包括：侧壁、腔底以及开口端，所述侧壁的一端位于所述开口端，所述侧壁的另一端与所述腔底连接；其中，所述开口端与所述腔底相向设置；所述加热模块包括：第一加热部以及至少一个第二加热部；其中，所述第一加热部一体成型于所述腔底的内部，至少一个所述第二加热部一体成型于所述侧壁的内部；所述第一加热部以及第二加热部分别用于向所述黑体腔的侧壁以及腔底提供热能以均匀加热所述黑体腔。通过本发明的黑体辐射源可以实现腔体内部温度一致且均匀，能够较精准的对光谱辐射测量仪器进行量值溯源。
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公开(公告)号：CN116165170A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202111412977.0
申请日：2021-11-25
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G01N21/55
Abstract: 本发明提供一种光谱发射率测量装置和方法，包括真空仓、光谱仪、辐射采集光路子系统、控制系统、测量子系统一、测量子系统二和数据处理系统，辐射采集光路子系统、测量子系统一和测量子系统二位于真空仓中，测量子系统一、测量子系统二和辐射采集光路子系统与控制系统链接；真空仓上设置窗口，将光透过窗口传入到光谱仪中；测量子系统一为基于能量法测量子系统，测量子系统二为基于反射法的测量子系统，控制系统控制辐射采集光路子系统采集所述测量子系统一或测量子系统二的辐射光传送给所述的光谱仪中，光谱仪将获得的辐射光转化为数字信号后传送给数据处理系统进行处理，获得样本的光谱发射率。本发明实现了宽温度测量范围下反射率的准确测量。
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公开(公告)号：CN119126882A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202310693497.9
申请日：2023-06-12
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
IPC: G05D23/24
Abstract: 本发明一种系列化黑体控制系统，温度控制及采集单元、功率驱动单元、功率器件、电源模块单元、人机交互单元、接口单元，功率器件采用单块陶瓷平板型半导体制冷器件作为标准，位于黑体辐射板背面；分别完成黑体辐射源的温度采集和温控功能；对功率器件的功率控制；提供人机交互界面；将温度控制及采集单元、电源模块、功率驱动单元组成控制组件模块，并将三者接口和安装固定支架标准化。可实现对系列化黑体进行通用化控制，进而可以缩短系列化黑体设计周期。
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公开(公告)号：CN110926620A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201811092252.6
申请日：2018-09-19
Applicant: 北京振兴计量测试研究所
Abstract: 本发明提供了一种基于单晶硅基底的红外靶标及其制作方法、保护结构，红外靶标包括单晶硅基底，单晶硅基底的厚度为100μm，单晶硅基底上设置有镂空图形，单晶硅基底的反射面上设置有高反射率膜，高反射率膜上设置有保护膜；采用单晶硅作为基底，使其在镂空图形的加工过程中不会产生表面变形，并且便于抛光和镀膜，不产生塑性变形，保证靶标表面的平整度。
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