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公开(公告)号：CN113138125B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202110430040.X
申请日：2021-04-21
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了原位双倾单轴拉伸纳米线装置及其制作方法，涉及材料显微结构原位变形研究技术领域。金属环的内侧壁上设置有平台，两组金属片组平行间隔设置在金属环的内部，并且各组金属片组的一端均固定在平台上，各组金属片组的另一端均为自由端，每组金属片组均包括一个第一金属片以及一个第二金属片，并且第一金属片与第二金属片固定贴合，两组金属片组中的第一金属片相互靠近，并且第一金属片的热膨胀系数大于第二金属片的热膨胀系数，固定件包括两个固定底座以及将两个固定底座连接在一起的纳米线，固定件将两组金属片组的自由端连接在一起；从而解决了现有技术中纳米材料原位变形的过程中无法对其实现原子尺度稳定的观察的问题。
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公开(公告)号：CN110261221A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201910430801.4
申请日：2019-05-22
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明涉及纳米材料力学性能与显微结构原位表征技术领域，提供一种原位拉伸装置及其制备方法，所述的制备方法包括：在MEMS力学芯片上对搭载的板料进行切割操作，得到第一拉伸辅助件、第二拉伸辅助件和预拉伸样品；对预拉伸样品进行减薄操作，以得到拉伸样品；第一拉伸辅助件连接MEMS力学芯片的第一搭载侧，拉伸样品的两端分别连接第二拉伸辅助件与MEMS力学芯片的第二搭载侧；第一拉伸辅助件与第二拉伸辅助件相嵌套成勾套结构；本发明设计巧妙、操作便捷，实现了在MEMS力学芯片上直接制备拉伸样品和用于辅助拉伸的勾套结构，可以有效防止拉伸样品在实验前出现变形或损坏的问题，提高了拉伸实验的成功率和检测结果的准确性。
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公开(公告)号：CN105223213B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201510629763.7
申请日：2015-09-28
Applicant: 北京工业大学
IPC: G01N23/04
CPC classification number: H01J37/20 , G01N23/02 , G01N2223/307 , G01N2223/32 , G01N2223/418 , H01J2237/206 , H01J2237/262
Abstract: 一种透射电镜双倾原位纳米压痕平台属于纳米材料力学性能‑显微结构原位表征领域。该平台主要由粘接区、支撑梁、承载梁、样品载台与微型压头组成，整体结构通过半导体微细加工技术制备。原位纳米压痕实验可采用热双金属片、V型电热梁、压电、静电、电磁、记忆合金等方式进行驱动，样品通过聚焦离子束块体取样技术获得。该一体化平台可置于透射电镜(TEM)样品杆前端的狭小空间内，在双轴倾转条件下，驱动装置驱动微型压头，在透射电镜中对材料进行原位纳米压痕、原位压缩和原位弯曲等实验。可以在亚埃、原子和纳米尺度下对材料的变形过程进行原位观察，研究其变形机制，揭示其显微结构与力学性能的关系。
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公开(公告)号：CN105527461A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201610029398.0
申请日：2016-01-16
Applicant: 北京工业大学
IPC: G01Q30/04
CPC classification number: G01Q30/04
Abstract: 本发明提供一种基于透射电镜HAADF图像的材料结构定量化分析方法。通过图像处理技术获取透射电镜高分辨图像中各原子点阵的坐标位置，得到各原子的积分强度及其邻域归一化强度，并充分结合HAADF成像原理与强度信息的关系，而在HAADF图像定性研究的基础上获得一些定量化的信息。通过原子点阵坐标，归一化强度等数据可分析出多种的定量化结构信息。在本方法中，原子点阵坐标的确定与强度积分科学合理；而邻域归一化强度的应用避免了材料(尤其是多晶纳米材料)中存在的较大范围内的结构波动和缺陷带来的影响；且能快速的对结构信息进行统计分析，避免了人为测量的巨大工作量及误差。该方法具有结果准确、适用范围广、可操作性强等特点。
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公开(公告)号：CN110246735B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN201910417905.1
申请日：2019-05-20
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01J37/20 , G01N23/2005 , G01N1/28
Abstract: 本发明涉及材料显微实验设备技术领域，提供了一种转移微纳样品的结构及制备方法及使用方法，该结构包括载物板、挡板以及基体；载物板与挡板连接呈“L”型，载物板的一端与基体相连；载物板上沿靠近基体的方向依次为样品区、过渡区以及粘接区；样品区用于搭载待测材料块，粘接区用于与目标载体进行连接。本发明实施例提供的转移微纳样品的结构，可以避免样品转移过程中受到离子束辐照产生的轰击、注入和溅射损伤和粘接沉积时的污染；通过设置过渡区还可以避免切削和沉积时的溅射损伤和污染；由于样品区的形状可以根据待测材料块的形状进行设置，有利于基于MEMS芯片的透射电镜原位力学平台实现更多加载功能，应用到更广泛的材料领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113560754A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110891858.1
申请日：2021-08-04
Applicant: 北京工业大学
IPC: B23K28/00 , B23K103/18
Abstract: 本发明公开一种利用冷焊接制备不同夹角晶界的设计制造装置，包括支撑件，支撑件内设置有两弯曲件，两弯曲件相对设置，两弯曲件的一端均与支撑件固接，任一弯曲件远离支撑件的一端通过固定件固接有第一样品，另一弯曲件远离支撑件的一端通过固定件固接有第二样品，第一样品与第二样品对应设置；弯曲件包括热膨胀系数不同的第一金属片和第二金属片。本发明能够实现通过改变双金属片的夹角，控制第一样品和第二样品对接焊合时的角度，能够对冷焊接形成晶界的取向角进行设计；本发明装置最大限度保留聚焦离子束系统的加工视野，不影响样品对接尖端的原位原子尺度观察，同时，该装置也可以实现不同种类材料的对接焊合，制备异类材料晶界。
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公开(公告)号：CN113324836B
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202110589564.3
申请日：2021-05-28
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开一种在显微镜中原位变形微纳样品的减震装置及方法，属于显微镜配件及微纳米材料力学性能测量研究领域。包括支撑部、动力部、减震部和载网四部分。纳米材料悬置于两片载网之间，通过加热弯曲的双金属片拉伸或压缩载网，使纳米材料达到变形效果。本发明通过减震装置解决了双金属片技术原位拉伸纳米材料过程中力学稳定性差，样品容易在转移过程中断裂的问题，提高了样品制备的成功率。在实现对单根/多根纳米线轴向拉伸、压缩，以及其它微纳尺度样品变形的同时，可同时观察材料在变形过程中的结构演变。
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公开(公告)号：CN113560754B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110891858.1
申请日：2021-08-04
Applicant: 北京工业大学
IPC: B23K28/00 , B23K103/18
Abstract: 本发明公开一种利用冷焊接制备不同夹角晶界的方法，包括支撑件，支撑件内设置有两弯曲件，两弯曲件相对设置，两弯曲件的一端均与支撑件固接，任一弯曲件远离支撑件的一端通过固定件固接有第一样品，另一弯曲件远离支撑件的一端通过固定件固接有第二样品，第一样品与第二样品对应设置；弯曲件包括热膨胀系数不同的第一金属片和第二金属片。本发明能够实现通过改变双金属片的夹角，控制第一样品和第二样品对接焊合时的角度，能够对冷焊接形成晶界的取向角进行设计；本发明装置最大限度保留聚焦离子束系统的加工视野，不影响样品对接尖端的原位原子尺度观察，同时，该装置也可以实现不同种类材料的对接焊合，制备异类材料晶界。
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公开(公告)号：CN113138125A
公开(公告)日：2021-07-20
申请号：CN202110430040.X
申请日：2021-04-21
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了原位双倾单轴拉伸纳米线装置及其制作方法，涉及材料显微结构原位变形研究技术领域。金属环的内侧壁上设置有平台，两组金属片组平行间隔设置在金属环的内部，并且各组金属片组的一端均固定在平台上，各组金属片组的另一端均为自由端，每组金属片组均包括一个第一金属片以及一个第二金属片，并且第一金属片与第二金属片固定贴合，两组金属片组中的第一金属片相互靠近，并且第一金属片的热膨胀系数大于第二金属片的热膨胀系数，固定件包括两个固定底座以及将两个固定底座连接在一起的纳米线，固定件将两组金属片组的自由端连接在一起；从而解决了现有技术中纳米材料原位变形的过程中无法对其实现原子尺度稳定的观察的问题。
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公开(公告)号：CN110246735A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910417905.1
申请日：2019-05-20
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01J37/20 , G01N23/2005 , G01N1/28
Abstract: 本发明涉及材料显微实验设备技术领域，提供了一种转移微纳样品的结构及制备方法及使用方法，该结构包括载物板、挡板以及基体；载物板与挡板连接呈“L”型，载物板的一端与基体相连；载物板上沿靠近基体的方向依次为样品区、过渡区以及粘接区；样品区用于搭载待测材料块，粘接区用于与目标载体进行连接。本发明实施例提供的转移微纳样品的结构，可以避免样品转移过程中受到离子束辐照产生的轰击、注入和溅射损伤和粘接沉积时的污染；通过设置过渡区还可以避免切削和沉积时的溅射损伤和污染；由于样品区的形状可以根据待测材料块的形状进行设置，有利于基于MEMS芯片的透射电镜原位力学平台实现更多加载功能，应用到更广泛的材料领域。
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