一种基于斜向ZnO纳米线阵列调制的AlGaN/GaN紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN107039558A

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201710281827.8

    申请日:2017-04-26

    CPC classification number: H01L31/1129 H01L31/035227 H01L31/18

    Abstract: 本发明提供了一种基于斜向ZnO纳米线阵列调制的AlGaN/GaN紫外探测器,包括无栅的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管和生长在无栅的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管栅极区域的斜向ZnO纳米线阵列;所述无栅的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管中的GaN外延层为半极性面(11‑22)的GaN层;所述GaN外延层包括GaN缓冲层、GaN沟道层和GaN帽层;所述GaN沟道层位于GaN缓冲层的上表面;所述斜向ZnO纳米线阵列与栅极区域的平面夹角为30~35°。本发明通过在无栅的高电子迁移率晶体管的栅极区域斜向生长ZnO纳米线阵列,提高探测器的探测效率,实现对紫外光强度的实时、精准、高效检测。

    一种氮气封装提高ZnO纳米线紫外探测器稳定性的方法

    公开(公告)号:CN114068764A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202111448069.7

    申请日:2018-01-07

    Abstract: 本发明涉及紫外探测技术领域与纳米材料技术领域,具体涉及一种氮气封装提高ZnO纳米线紫外探测器稳定性的方法,包括以下步骤:将ZnO纳米线紫外探测器用导电胶固定于金属管底座上,然后用修饰液进行修饰;将固定于金属管底座上的ZnO纳米线紫外探测器件放入充满干燥氮气的储能焊设备中;利用储能焊技术封装金属管帽与金属管底座,将氮气密闭于金属管帽与金属管底座之间。本发明针对ZnO纳米线表面稳定性的问题,采用储能焊将N2密闭于紫外探测器的封装结构中,既保证了ZnO纳米线紫外探测器的高增益特性,又提高了器件性能的长期稳定性。

    一种基于斜向ZnO纳米线/GaN pn结的LED及制备方法

    公开(公告)号:CN107342351B

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201710481596.5

    申请日:2017-06-22

    Abstract: 一种基于斜向ZnO纳米线/GaN pn结的LED及制备方法,涉及半导体的技术领域。本发明通过在半极性GaN外延层上生长斜向ZnO纳米线阵列,提高LED的光取出率和发光面积,实现在蓝紫光波段的高效发光。其中,半极性面(11‑22)的GaN层包括生长在m面Al2O3衬底上未掺杂的GaN层和其上掺Mg的p型GaN层;ZnO纳米线阵列直接由水热法生长在半极性GaN面上,为n型掺杂,斜向生长,与生长平面的夹角为30~35度;将斜向ZnO纳米线阵列用聚合物填充后,再在其上一层制作导电薄膜,作为负极,而正极位于GaN层上。

    一种基于斜向ZnO纳米线阵列调制的AlGaN/GaN紫外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN107039558B

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201710281827.8

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 本发明提供了一种基于斜向ZnO纳米线阵列调制的AlGaN/GaN紫外探测器,包括无栅的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管和生长在无栅的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管栅极区域的斜向ZnO纳米线阵列;所述无栅的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管中的GaN外延层为半极性面(11‑22)的GaN层;所述GaN外延层包括GaN缓冲层、GaN沟道层和GaN帽层;所述GaN沟道层位于GaN缓冲层的上表面;所述斜向ZnO纳米线阵列与栅极区域的平面夹角为30~35°。本发明通过在无栅的高电子迁移率晶体管的栅极区域斜向生长ZnO纳米线阵列,提高探测器的探测效率,实现对紫外光强度的实时、精准、高效检测。

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