-
公开(公告)号：CN114939349A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210478564.0
申请日：2022-05-03
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种用于气体分离的金属‑有机空穴配合物混合基质膜的制备，属于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物，与金属‑有机空穴配合物制备成膜。其制备方法包括：将金属‑有机空穴配合物溶解到有机溶剂中，超声至溶解，得到金属‑有机空穴配合物溶液；然后称取一定量的聚合物加入上述溶液，超声至溶解，得到混合基质膜铸膜液；将混合基质膜铸膜液倒入一定大小的制膜表面皿中，待溶剂挥发，制得金属‑有机空穴配合物混合基质膜。本发明实现了与高分子基质的完全混合，克服了混合基质膜中界面缺陷的问题，能够实现气体中CO2/CH4的有效分离，使用价值高，应用前景好。
-
公开(公告)号：CN113828170B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202111259614.8
申请日：2021-10-28
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种混合基质膜及其制备方法和应用，属于材料科学领域与气体分离领域。混合基质膜包括高分子聚合物与多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F。混合基质膜中多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F的含量为1‑12wt％。本发明混合基质膜中填充的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F有别于传统的无机填充材料，传统的无机填充材料是随着在混合基质膜中填充量的增多，膜的分离性能越好；而本发明制备的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F则是在较低填充量(3.2wt％)时膜的分离性能最好，之后随着其填充量的增多，膜的分离性能反而下降。
-
公开(公告)号：CN114931860B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202210478565.5
申请日：2022-05-03
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种包含三氟甲基的金属有机空穴配合物混合基质膜及应用，于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物，与ZRT制备成膜。其制备方法包括：将ZRT溶解到有机溶剂中，超声至溶解，得到ZRT溶液；然后称取一定量的聚合物加入上述溶液，超声至溶解，得到混合基质膜铸膜液；将混合基质膜铸膜液倒入一定大小的制膜表面皿中，待溶剂挥发，制得ZRT混合基质膜。能够实现气体中CO2/CH4的有效分离，使用价值高，应用前景好。
-
公开(公告)号：CN114931860A
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202210478565.5
申请日：2022-05-03
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种包含三氟甲基的金属有机空穴配合物混合基质膜及应用，于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物，与ZRT制备成膜。其制备方法包括：将ZRT溶解到有机溶剂中，超声至溶解，得到ZRT溶液；然后称取一定量的聚合物加入上述溶液，超声至溶解，得到混合基质膜铸膜液；将混合基质膜铸膜液倒入一定大小的制膜表面皿中，待溶剂挥发，制得ZRT混合基质膜。能够实现气体中CO2/CH4的有效分离，使用价值高，应用前景好。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113828170A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111259614.8
申请日：2021-10-28
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种混合基质膜及其制备方法和应用，属于材料科学领域与气体分离领域。混合基质膜包括高分子聚合物与多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F。混合基质膜中多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F的含量为1‑12wt％。本发明混合基质膜中填充的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F有别于传统的无机填充材料，传统的无机填充材料是随着在混合基质膜中填充量的增多，膜的分离性能越好；而本发明制备的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑4F则是在较低填充量(3.2wt％)时膜的分离性能最好，之后随着其填充量的增多，膜的分离性能反而下降。
-
公开(公告)号：CN116059837B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202310088093.7
申请日：2023-02-09
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于气体分离的金属‑有机笼配合物混合基质膜及其制备方法和应用。涉及材料科学领域和气体分离领域。混合基质膜包括高分子聚合物与多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑2OH。本发明混合基质膜中填充的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑2OH区别于传统的无机填充材料，传统的无机填充材料是随着在混合基质膜中填充量的增多，膜的分离性能越好；而本发明制备的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑2OH则是在较低填充量(2.17wt％)时膜的分离性能最好，之后随着其填充量的增多，膜的分离性能反而下降。本发明的混合基质膜可应用于多种气体的分离，应用前景广阔。
-
公开(公告)号：CN114939349B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202210478564.0
申请日：2022-05-03
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种用于气体分离的金属‑有机空穴配合物混合基质膜的制备，属于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物，与金属‑有机空穴配合物制备成膜。其制备方法包括：将金属‑有机空穴配合物溶解到有机溶剂中，超声至溶解，得到金属‑有机空穴配合物溶液；然后称取一定量的聚合物加入上述溶液，超声至溶解，得到混合基质膜铸膜液；将混合基质膜铸膜液倒入一定大小的制膜表面皿中，待溶剂挥发，制得金属‑有机空穴配合物混合基质膜。本发明实现了与高分子基质的完全混合，克服了混合基质膜中界面缺陷的问题，能够实现气体中CO2/CH4的有效分离，使用价值高，应用前景好。
-
公开(公告)号：CN116059837A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202310088093.7
申请日：2023-02-09
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于气体分离的金属‑有机笼配合物混合基质膜及其制备方法和应用。涉及材料科学领域和气体分离领域。混合基质膜包括高分子聚合物与多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑2OH。本发明混合基质膜中填充的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑2OH区别于传统的无机填充材料，传统的无机填充材料是随着在混合基质膜中填充量的增多，膜的分离性能越好；而本发明制备的多孔金属‑有机笼状配合物ZRT‑1‑2OH则是在较低填充量(2.17wt％)时膜的分离性能最好，之后随着其填充量的增多，膜的分离性能反而下降。本发明的混合基质膜可应用于多种气体的分离，应用前景广阔。
-
公开(公告)号：CN114939350A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210478641.2
申请日：2022-05-03
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种用于气体分离的金属‑有机笼配合物混合基质膜的制备，属于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物，与金属‑有机笼配合物制备成膜。其制备方法包括：将金属‑有机笼配合物溶解到有机溶剂中，超声至溶解，得到金属‑有机笼配合物溶液；然后称取聚合物加入上述溶液，超声至溶解，得到混合基质膜铸膜液；将混合基质膜铸膜液倒入制膜表面皿中，待溶剂挥发，制得金属‑有机笼配合物混合基质膜。本发明克服了混合基质膜中界面缺陷的问题，能够实现气体中CO2/CH4的有效分离，使用价值高，应用前景好。
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
9
records
(took 0.024 seconds)
