Invention Publication
- Patent Title: 一种包含三氟甲基的金属有机空穴配合物混合基质膜及应用
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Application No.: CN202210478565.5Application Date: 2022-05-03
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Publication No.: CN114931860APublication Date: 2022-08-23
- Inventor: 谢亚勃 , 刘桐欣 , 张瑞丽
- Applicant: 北京工业大学
- Applicant Address: 北京市朝阳区平乐园100号
- Assignee: 北京工业大学
- Current Assignee: 北京工业大学
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区平乐园100号
- Agency: 北京思海天达知识产权代理有限公司
- Agent 张立改
- Main IPC: B01D67/00
- IPC: B01D67/00 ; B01D69/14 ; B01D71/06 ; B01D71/64 ; B01D71/76 ; B01D53/22
Abstract:
一种包含三氟甲基的金属有机空穴配合物混合基质膜及应用，于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物，与ZRT制备成膜。其制备方法包括：将ZRT溶解到有机溶剂中，超声至溶解，得到ZRT溶液；然后称取一定量的聚合物加入上述溶液，超声至溶解，得到混合基质膜铸膜液；将混合基质膜铸膜液倒入一定大小的制膜表面皿中，待溶剂挥发，制得ZRT混合基质膜。能够实现气体中CO2/CH4的有效分离，使用价值高，应用前景好。
Public/Granted literature
- CN114931860B 一种包含三氟甲基的金属有机空穴配合物混合基质膜及应用 Public/Granted day:2023-04-28
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