Invention Grant
- Patent Title: 一种用于气体分离的金属-有机空穴配合物混合基质膜的制备
-
Application No.: CN202210478564.0Application Date: 2022-05-03
-
Publication No.: CN114939349BPublication Date: 2023-08-01
- Inventor: 谢亚勃 , 刘桐欣 , 张瑞丽
- Applicant: 北京工业大学
- Applicant Address: 北京市朝阳区平乐园100号
- Assignee: 北京工业大学
- Current Assignee: 北京工业大学
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区平乐园100号
- Agency: 北京思海天达知识产权代理有限公司
- Agent 张立改
- Main IPC: B01D67/00
- IPC: B01D67/00 ; B01D69/14 ; B01D71/06 ; B01D71/64 ; B01D71/76 ; B01D53/22

Abstract:
一种用于气体分离的金属‑有机空穴配合物混合基质膜的制备,属于材料科学领域与气体分离领域。该混合基质膜包括高分子聚合物,与金属‑有机空穴配合物制备成膜。其制备方法包括:将金属‑有机空穴配合物溶解到有机溶剂中,超声至溶解,得到金属‑有机空穴配合物溶液;然后称取一定量的聚合物加入上述溶液,超声至溶解,得到混合基质膜铸膜液;将混合基质膜铸膜液倒入一定大小的制膜表面皿中,待溶剂挥发,制得金属‑有机空穴配合物混合基质膜。本发明实现了与高分子基质的完全混合,克服了混合基质膜中界面缺陷的问题,能够实现气体中CO2/CH4的有效分离,使用价值高,应用前景好。
Public/Granted literature
- CN114939349A 一种用于气体分离的金属-有机空穴配合物混合基质膜的制备 Public/Granted day:2022-08-26
Information query