一种偏振控制的表面等离激元双功能超表面及其设计和制备方法

    公开(公告)号:CN111045121B

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN201911301090.7

    申请日:2019-12-17

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种偏振控制的表面等离激元双功能超表面及其设计和制备方法,所述超表面纵向采用采用金属‑介质‑金属三层结构,表面为梯形单元结构阵列,实现不同偏振态下光的振幅与相位的独立调控:可对x方向偏振光进行相位调控,实现偏转器功能;可对y方向偏振光进行振幅调控,实现结构色功能。该种双功能结构提高了超表面结构的集成度与调控多样性,偏转、结构色两种应用既相互独立又互为补充,两种功能的结合为防伪、生物组织双折射的测量、生物分子旋光度的测量提供了全新的解决方案。

    一种表面等离激元超材料的制备方法

    公开(公告)号:CN110629262A

    公开(公告)日:2019-12-31

    申请号:CN201910767482.6

    申请日:2019-08-20

    Applicant: 北京大学

    Inventor: 吴文刚 朱佳 黄允

    Abstract: 本发明提供一种表面等离激元超材料的制备方法,属于纳米光子学以及纳米加工技术领域。本发明采用电镀工艺,通过对旋涂光刻胶厚度的控制,实现对金属-介质-金属的中的中间介质层厚度的控制,而不同的介质层厚度可作为一种光学腔,并耦合表面等离激元,从而可实现不同的光学响应;同时利用金属的欧姆损耗来增强光学吸收,再结合表面等离激元的电磁能量局限效应,可实现光学近完美吸收(吸收率接近100%)以及高品质因子光学腔,本发明工艺方法简单、稳定并且廉价,可实现大面积加工。

    一种表面等离激元超材料的制备方法

    公开(公告)号:CN110629262B

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN201910767482.6

    申请日:2019-08-20

    Applicant: 北京大学

    Inventor: 吴文刚 朱佳 黄允

    Abstract: 本发明提供一种表面等离激元超材料的制备方法,属于纳米光子学以及纳米加工技术领域。本发明采用电镀工艺,通过对旋涂光刻胶厚度的控制,实现对金属‑介质‑金属的中的中间介质层厚度的控制,而不同的介质层厚度可作为一种光学腔,并耦合表面等离激元,从而可实现不同的光学响应;同时利用金属的欧姆损耗来增强光学吸收,再结合表面等离激元的电磁能量局限效应,可实现光学近完美吸收(吸收率接近100%)以及高品质因子光学腔,本发明工艺方法简单、稳定并且廉价,可实现大面积加工。

    一种偏振控制的表面等离激元双功能超表面及其设计和制备方法

    公开(公告)号:CN111045121A

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201911301090.7

    申请日:2019-12-17

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种偏振控制的表面等离激元双功能超表面及其设计和制备方法,所述超表面纵向采用采用金属-介质-金属三层结构,表面为梯形单元结构阵列,实现不同偏振态下光的振幅与相位的独立调控:可对x方向偏振光进行相位调控,实现偏转器功能;可对y方向偏振光进行振幅调控,实现结构色功能。该种双功能结构提高了超表面结构的集成度与调控多样性,偏转、结构色两种应用既相互独立又互为补充,两种功能的结合为防伪、生物组织双折射的测量、生物分子旋光度的测量提供了全新的解决方案。

    一种三维全金属微腔结构表面等离激元阵列加工方法

    公开(公告)号:CN109095435A

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201810870421.8

    申请日:2018-08-02

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种三维全金属微腔结构表面等离激元阵列加工方法。其主要步骤包括:衬底材料准备;在所述衬底上沉积金属铝;接着在铝膜上进行光刻形成图形化衬底;然后在已经图形化的衬底上沉积金属,并利用剥离工艺将光刻图形转化为金属图形;最后以图形化金属为掩模,用铝腐蚀液腐蚀铝膜,通过横向钻蚀形成三维腔体结构。上述步骤中,通过对光刻图形的设计、铝膜的厚度以及铝腐蚀液的腐蚀时间来对三维腔体结构的形状、高度、宽度进行调控。本发明所采用的湿法腐蚀工艺,工艺方法简单、稳定并且对材料的腐蚀选择性好,可实现大面积加工,并且可实现近完美吸收的光学特性,这将在光学器件以及生化传感方面有巨大的应用潜力。

Patent Agency Ranking