具有三维凹陷结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311349B

    公开(公告)日:2010-09-08

    申请号:CN200810101189.8

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维凹陷结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维凹陷结构的硅的三维结构具有类似于倒屋顶的外形,即,顶面为长方形,侧面为两对相同大小的三角形和梯形,顶面长方形的长度等于该倒屋顶形的屋脊长度和顶面长方形的宽度的和,特别的,当倒屋顶形的屋脊长度为零时,该倒屋顶形退化为倒金字塔形。本发明同时提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维凹陷结构的硅的方法。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;制备参数容易控制;生成的产物形貌平整,结晶良好,且具有规则的硅的三维立体结构。

    一种具有三维凹陷结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311347A

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200810101187.9

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维凹陷结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维凹陷结构的硅的三维凹陷结构为直棱柱形,其底面为多边形,依次包括边A1,A2,B1,B2,C1,C2,其中A1平行于A2,B1平行于B2,C1平行于C2;A1,B1,C1或A2,B2,C2所在的直线两两相交得到的三个交点形成的三角形为正三角形。本发明还提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维凹陷结构的硅的方法,该方法通过沉积在硅表面的金属锌与硅形成共熔生长上述具有三维立体结构的硅。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;易于重复;制备参数容易控制;生成的产物结晶良好,且具有规则的三维立体结构。

    具有三维凹陷结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311349A

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200810101189.8

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维凹陷结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维凹陷结构的硅的三维结构具有类似于倒屋顶的外形,即,顶面为长方形,侧面为两对相同大小的三角形和梯形,顶面长方形的长度等于该倒屋顶形的屋脊长度和顶面长方形的宽度的和,特别的,当倒屋顶形的屋脊长度为零时,该倒屋顶形退化为倒金字塔形。本发明同时提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维凹陷结构的硅的方法。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;制备参数容易控制;生成的产物形貌平整,结晶良好,且具有规则的硅的三维立体结构。

    碳纤维复合单根碳纳米管及其制备方法

    公开(公告)号:CN100411866C

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200510011678.0

    申请日:2005-04-30

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种碳纤维复合单根碳纳米管,由碳纳米管、锥状碳纤维和基底组成,其特征在于,所述的碳纳米管垂直生长于基底上,并包裹在锥状碳纤维中,同时在锥状碳纤维的顶端探出形成针尖状。本发明还提供了制备所述的碳纤维复合单根碳纳米管的方法,包括步骤:(1)将基底清洗干净;(2)将过渡金属催化剂附着在基底表面;(3)将基底置于可抽真空的加热设备中作为电极之一,并与另一电极接触;(4)将加热设备抽真空后,缓慢通入还原气体与碳源气体的混合气;(5)当加热设备达到一定压强时,在两电极之间加电流,使基底温度达到1600℃至2400℃范围内某一值并保持30至120秒,然后切断电源;(6)继续通入还原气体,直到基底冷却。

    氧化钨微米管及其制备方法

    公开(公告)号:CN100349803C

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN200610011721.8

    申请日:2006-04-04

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 一种氧化钨微米管及其制备方法。所述的微米管截面呈六重对称,直径为1至6微米,长度为5至10微米。所述的制备方法包括步骤:(1)将钨基底和水分别置于可加热的反应腔室中;(2)通入保护气体,除去反应腔室内空气,并使腔内压强保持在0.35至0.45MPa之间;(3)加热,使反应腔室内温度达到1100-1300℃,并保持30-45分钟,在钨基底上生长氧化钨微米管,其化学成分为WO3·xH2O;(4)反应腔室内温度自然降至室温,微米管的化学成分由WO3·xH2O脱水而成为六角型氧化钨:h-WO3。

    一种具有三维中空结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311350B

    公开(公告)日:2011-01-26

    申请号:CN200810101190.0

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维中空结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维中空结构的硅的三维中空结构为直棱柱形,其底面为多边形,依次包括边A1,A2,B1,B2,C1,C2,其中A1平行于A2,B1平行于B2,C1平行于C2;A1,B1,C1或A2,B2,C2所在的直线两两相交得到的三个交点形成的三角形为正三角形。上述三维结构的内部是空心的。本发明同时提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维中空结构的硅的方法,该方法通过沉积在硅表面的金属锌与硅形成共熔生长上述具有三维立体结构的硅。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;易于重复;制备参数容易控制;生成的产物结晶良好,且具有规则的三维立体结构。

    一种具有三维凹陷结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311347B

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200810101187.9

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维凹陷结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维凹陷结构的硅的三维凹陷结构为直棱柱形,其底面为多边形,依次包括边A1,A2,B1,B2,C1,C2,其中A1平行于A2,B1平行于B2,C1平行于C2;A1,B1,C1或A2,B2,C2所在的直线两两相交得到的三个交点形成的三角形为正三角形。本发明还提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维凹陷结构的硅的方法,该方法通过沉积在硅表面的金属锌与硅形成共熔生长上述具有三维立体结构的硅。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;易于重复;制备参数容易控制;生成的产物结晶良好,且具有规则的三维立体结构。

    一种具有三维中空结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311350A

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200810101190.0

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维中空结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维中空结构的硅的三维中空结构为直棱柱形,其底面为多边形,依次包括边A1,A2,B1,B2,C1,C2,其中A1平行于A2,B1平行于B2,C1平行于C2;A1,B1,C1或A2,B2,C2所在的直线两两相交得到的三个交点形成的三角形为正三角形。上述三维结构的内部是空心的。本发明同时提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维中空结构的硅的方法,该方法通过沉积在硅表面的金属锌与硅形成共熔生长上述具有三维立体结构的硅。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;易于重复;制备参数容易控制;生成的产物结晶良好,且具有规则的三维立体结构。

    具有三维中空结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311348B

    公开(公告)日:2010-12-08

    申请号:CN200810101188.3

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维中空结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维中空结构的硅的三维结构具有类似于屋顶的外形,即,底面为长方形,侧面为两对相同大小的三角形和梯形,底面长方形的长度等于该屋顶形的屋脊长度和底面长方形的宽度的和,特别的,当屋顶形的屋脊长度为零时,该屋顶形退化为正四棱锥形,也可以称为金字塔形。上述三维结构的内部是空心的。本发明同时提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维中空结构的硅的方法。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;易于重复;制备参数容易控制;生成的产物结晶良好,且具有规则的三维立体结构。

    具有三维中空结构的硅及其制备方法

    公开(公告)号:CN101311348A

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200810101188.3

    申请日:2008-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维中空结构的硅及其制备方法,属于半导体材料及其制备领域。本发明具有三维中空结构的硅的三维结构具有类似于屋顶的外形,即,底面为长方形,侧面为两对相同大小的三角形和梯形,底面长方形的长度等于该屋顶形的屋脊长度和底面长方形的宽度的和,特别的,当屋顶形的屋脊长度为零时,该屋顶形退化为正四棱锥形,也可以称为金字塔形。上述三维结构的内部是空心的。本发明同时提供了一种通过气相沉积方法制备上述具有三维中空结构的硅的方法。和现有技术相比,本发明的优势在于:制备所需原料非常廉价;制备步骤简单;易于重复;制备参数容易控制;生成的产物结晶良好,且具有规则的三维立体结构。

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