一种加热腔室
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104716071B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201310685118.8

    申请日:2013-12-12

    Inventor: 刘红义

    Abstract: 本发明提供一种加热腔室,包括热源腔室和主腔室,所述热源腔室与所述主腔室固定连接,以对设置在所述主腔室内的工件进行加热,其中,所述主腔室内还设置有用于支撑所述工件的支撑机构,所述支撑机构能够绕自身轴线旋转。在本发明中,所述主腔室内设置有支撑机构,在加热过程中,所述支撑机构能够绕自身轴线旋转,从而对工件进行更加均匀的加热以除去工件上吸附的水蒸气以及易挥发杂质,进而提高产品质量。

    烧结设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114754585A

    公开(公告)日:2022-07-15

    申请号:CN202210422134.7

    申请日:2022-04-21

    Abstract: 本发明提供一种烧结设备,其包括内壳体、外壳体和加热装置,其中,外壳体间隔地环绕在内壳体的周围;加热装置设置于外壳体与内壳体之间,用于对内壳体及其内部进行加热;内壳体围成用于容置待烧结件的封闭空间,且内壳体的材质为能够避免颗粒产生的致密性材质,并能够将封闭空间中的气体与内壳体之外的气体隔离。本发明提供的烧结设备,可以解决现有技术中产生大量颗粒和外界气体对烧结工艺产生影响等的问题。

    等离子体启辉的检测装置及方法、工艺腔室

    公开(公告)号:CN110582155A

    公开(公告)日:2019-12-17

    申请号:CN201810586846.6

    申请日:2018-06-08

    Inventor: 叶华 刘红义

    Abstract: 本发明公开了一种等离子体启辉的检测装置、方法和工艺腔室。包括光电转换元件和控制单元,其中,光电转换元件的感光面用于与工艺腔室的出光侧对应,以检测工艺腔室内的光信号并将光信号转换为电信号后发送至控制单元;控制单元,用于接收电信号后与预设的临界启辉电信号进行比较,当电信号满足临界启辉电信号时,判定工艺腔室内的等离子体发生启辉。通过检测工艺腔室内的光信号并将光信号转换为电信号,之后根据电信号确定等离子体是否发生启辉。检测等离子体是否启辉的装置简单、有效,能够有效地降低检测等离子体启辉的成本。此外,还便于工艺开发人员进行预判,无需复杂的控制算法与数据处理,可以更好地进行推广应用。

    烧结设备
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114754585B

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202210422134.7

    申请日:2022-04-21

    Abstract: 本发明提供一种烧结设备,其包括内壳体、外壳体和加热装置,其中,外壳体间隔地环绕在内壳体的周围;加热装置设置于外壳体与内壳体之间,用于对内壳体及其内部进行加热;内壳体围成用于容置待烧结件的封闭空间,且内壳体的材质为能够避免颗粒产生的致密性材质,并能够将封闭空间中的气体与内壳体之外的气体隔离。本发明提供的烧结设备,可以解决现有技术中产生大量颗粒和外界气体对烧结工艺产生影响等的问题。

    一种反应腔室
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105405788B

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN201410471424.6

    申请日:2014-09-16

    Inventor: 刘红义

    Abstract: 本发明提供了一种反应腔室,该反应腔室包括工艺腔、检测腔和传输装置,其中,工艺腔用于对基片进行薄膜沉积工艺;检测腔用于检测沉积在基片上的薄膜厚度;在工艺腔与检测腔之间具有使二者相连通、且供基片通过的传片口,传输装置用于通过传片口在工艺腔和检测腔之间传输基片。本发明提供的反应腔室,可以在完成工艺配方之后检测基片沉积的实际薄膜沉积厚度并调整工艺配方来使其沉积至目标厚度,从而可以提高良品率;而且不需要采用现有技术中周期性地基于测试片调整工艺配方的方式,因而不仅可以提高生产率,而且还可以不需要耗费测试片,从而可以提高经济效益。

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