公开(公告)号：CN103928453B

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201310011529.9

申请日：2013-01-11

Applicant: 北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 郭建

IPC: H01L27/02 ,  H01L21/77 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/1343

CPC classification number: H01L27/0292 ,  G02F1/1345 ,  G02F1/136286 ,  H01L21/84

Abstract: 本发明公开了一种阵列基板，包括周边布线区，所述周边布线区包括防静电释放区域，所述防静电释放区域包括基板，形成在所述基板上的栅线、栅绝缘层、数据线、保护层和透明电极，其中，所述栅绝缘层上形成有第一过孔，所述保护层上与所述第一过孔对应的位置上形成有第二过孔，所述栅线、数据线和透明电极通过所述第一过孔和第二过孔连接。本发明还公开了一种阵列基板的制造方法，采用该方法制造的上述阵列基板结构能有效避免底层金属的过刻现象。

公开(公告)号：CN103885299B

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201410099166.3

申请日：2014-03-17

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 史大为 ,  郭建

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70608 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70625

Abstract: 本发明提供一种曝光系统。该曝光系统包括光源和载台，光源和载台相对设置，载台用于放置待曝光膜，光源发出的光线能对待曝光膜进行曝光，还包括厚度测量单元和光强调节单元，厚度测量单元和光强调节单元电连接；厚度测量单元用于测量不同区域的待曝光膜的厚度；光强调节单元用于根据不同区域的待曝光膜的厚度，对相应区域的待曝光膜的曝光光强进行调节。该曝光系统通过设置厚度测量单元和光强调节单元，能够改善由于不同区域的待曝光膜的厚度不均从而导致的经曝光后待曝光膜上形成的图形尺寸均一性差的问题，从而使得显示产品显示面板中各功能层的图形尺寸更加均一，进而使得显示产品的性能更加稳定。

公开(公告)号：CN103412435B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201310313938.4

申请日：2013-07-24

Applicant: 北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 郭仁炜 ,  董学 ,  郭建

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/136

CPC classification number: G02F1/133617 ,  B82Y30/00 ,  C09K11/565 ,  G02B5/201 ,  G02F1/133514 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/134336 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/133357 ,  G02F2001/133565 ,  G02F2001/133614 ,  G02F2001/133638 ,  G02F2001/136222 ,  G02F2201/086 ,  G02F2202/108 ,  G02F2202/36 ,  G02F2203/01

Abstract: 本发明公开了一种液晶显示屏及显示装置，在液晶显示屏内设置有多个像素单元，每个像素单元具有多个显示不同颜色的亚像素单元；在各像素单元的至少一个颜色的亚像素单元对应的阵列基板的位置，设置有能够使背光透过的量子点层，量子点层在受日光中的紫外光激发后发出至少包含对应亚像素单元颜色的光；彩色滤光片位于量子点层和对向基板之间。该液晶显示屏在户外进行显示时，日光中的紫外光照射到量子点层，该量子点层受紫外光激发后会发光，这样，透过彩色滤光片的光为背光和量子点层受激发后发出的光之和，从而增强了液晶显示屏的显示亮度，提高了液晶显示屏在户外的可观看性。

公开(公告)号：CN104952887A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201510363072.7

申请日：2015-06-26

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 侯学成 ,  卢凯 ,  郭建

IPC: H01L27/12 ,  H01L21/77

CPC classification number: H01L27/1248 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1244 ,  H01L27/1259

Abstract: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的阵列基板树脂过孔处的光刻胶比其他位置更厚，难以被完全去除的问题。本发明的阵列基板包括多个薄膜晶体管和具有至少一个树脂过孔的树脂层，所述薄膜晶体管包括源极、漏极、栅极、有源区，至少部分树脂过孔处设有位于树脂层下方的用于降低树脂过孔处端差的端差调整层。本发明阵列基板在树脂过孔处的下方设置端差调整层，可以有效减小树脂过孔处的端差，后续各层进行光刻工艺时，此处光刻胶厚度与其他位置的高度差减小，有力的改善树脂过孔处端差大造成的钝化层过孔波动，有效避免像素电极金属残留的问题。本发明的阵列基板适用于各种显示装置。

公开(公告)号：CN103324025B

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201310256981.1

申请日：2013-06-25

Applicant: 北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 史大为 ,  郭建

IPC: G03F1/44 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/44

Abstract: 本发明公开了一种掩膜板以及应用其检测曝光缺陷的方法，涉及显示技术领域，可明确掌握曝光缺陷的产生原因，提升曝光效果，增加基板的参数指标。本发明实施例的掩膜板，包括掩膜图形，掩膜板还包括多个沿曝光机扫描方向排列设置的检测标掩膜图形，检测标掩膜图形设置在掩膜图形的边缘，检测标掩膜图形用于在基板上形成检测标，检测标用于反映曝光机的曝光缺陷。

公开(公告)号：CN103207487B

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201310098734.3

申请日：2013-03-26

Applicant: 北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 郭建

IPC: G02F1/1362 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L27/124 ,  G02F1/136259 ,  G02F2001/136263

Abstract: 本发明涉及液晶显示面板技术领域，公开了一种阵列基板、显示装置及阵列基板的维修方法。所述阵列基板包括衬底；设置在衬底上的栅线维修线；设置在栅线维修线上方的多条互相平行的数据线，每条数据线的两端分别具有与栅线维修线对应的维修部；设置在所述每个维修部上的导电层，维修时所述导电层融化后形成断线数据线的端部与栅线维修线的电连接。本发明有益效果如下：通过增加栅线维修线，且数据线的两端分别具有与栅线维修线对应的维修部，并在维修部设置导电层，在数据线断线时，通过融化导电层，使数据线与栅线维修线连接，从而使断开的数据线通过栅线维修线连接起来，相比于现有技术，大大提高了对盒后阵列基板的维修效率。

公开(公告)号：CN103000495B

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201210533950.1

申请日：2012-12-11

Applicant: 北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 郭建

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3213

Abstract: 本发明涉及半导体加工技术领域，公开了一种基板制备方法，包括：形成防护层，对防护层进行处理，得到相应图形的防护层，并使防护层的表面粗糙化；在所述防护层的粗糙表面上生成金属层；对所述金属层进行曝光显影、以及湿法刻蚀进行构图。在形成防护层时，对防护层进行处理，可以使防护层的表面比较粗糙，在对防护层的粗糙表面上形成的金属层进行过刻时，刻蚀液可以通过防护层的粗糙表面上的坑洼处进行渗透，使刻蚀液可对金属层的底面进行刻蚀，发生侧面刻蚀，侧面刻蚀的发生能够提高刻蚀液对金属层的刻蚀速率，进而提高基板整体的产出效率。

公开(公告)号：CN104299942A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410465232.4

申请日：2014-09-12

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 阎长江 ,  卢凯 ,  郭建 ,  谢振宇

IPC: H01L21/768 ,  H01L21/77 ,  H01L23/538

CPC classification number: H01L27/1259 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/76804 ,  H01L29/66765 ,  H01L21/76898 ,  H01L21/311 ,  H01L23/538 ,  H01L27/1214

Abstract: 本发明涉及显示技术领域，公开了一种过孔制作方法、阵列基板制作方法及阵列基板、显示装置，用以防止在制作过孔时形成倒角，以提高产品质量并改善显示装置的显示效果。所述过孔制作方法，包括：采用第一刻蚀工艺对电极上方需要形成过孔的区域的顶层膜层进行部分刻蚀，其中采用第一刻蚀工艺的竖直刻蚀量小于顶层膜层的厚度；采用竖直刻蚀速率大于横向刻蚀速率的第二刻蚀工艺对需要形成过孔区域中的剩余部分进行刻蚀至漏出所述电极。

公开(公告)号：CN104267574A

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201410446667.4

申请日：2014-09-03

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 张家祥 ,  郭建

IPC: G03F1/26

CPC classification number: G03F1/26

Abstract: 本发明提供一种掩膜板。用于解决现有技术存在的由于掩膜板的过孔产生衍射效应导致无法制作4um以下的接触孔的问题。本发明的掩膜板中相位反转层可以将经过相位反转层的部分光线进行相位反转，此时，经过镂空区域的部分光线产生衍射效应时，与经过相位反转的光线抵消，消除了掩膜板的镂空区域的衍射效应，曝光形成的对应镂空区域的图形的尺寸更小，能够完成更小像素结构的制备；同时，光线强度的从镂空区域的中心向周边的降低也更快，曝光形成的对应镂空区域的图形的坡度角更大。

公开(公告)号：CN104090361A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201410287482.3

申请日：2014-06-24

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方光电科技有限公司

Inventor： 郭建

IPC: G02B26/00 ,  G02F1/167

CPC classification number: G02F1/167 ,  G02B1/14 ,  G02B5/201 ,  G02B26/005 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/133514 ,  G02F1/133617 ,  G02F1/3556 ,  G02F2001/133614 ,  G02F2001/133618 ,  G02F2001/1676

Abstract: 本发明公开了一种有源基板及显示装置，用以实现电子纸的彩色显示。本发明提供的一种有源基板，包括第一衬底、以及形成在第一衬底上的像素电极层，还包括形成在所述像素电极层上的彩膜层和形成在所述彩膜层之上的保护层，其中，所述彩膜层包括：依次排列的红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元；所述红色子像素单元的材料为在环境光的激发下发出红光的量子点材料；所述绿色子像素单元的材料为在环境光的激发下发出绿光的量子点材料；所述蓝色子像素单元的材料为在环境光的激发下发出蓝光的量子点材料。本发明提供的显示装置包括电泳显示装置和电润湿显示装置。