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公开(公告)号：CN107470117B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201710662141.3
申请日：2017-08-04
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明提供了一种带有热管散热器的超磁致伸缩超声致动器。包括热管散热器和超磁致伸缩超声致动器，热管散热器包括热管和翅片，超磁致伸缩超声致动器包括：外壳上部、外壳下部、Terfenol‑D棒材、导杆、导磁片和导磁套。本发明采用Terfenol‑D棒材套接热管，通过在Terfenol‑D棒材和热管之间注入的绝缘导热胶把热量从Terfenol‑D棒材传向翅片的方式来限制高频温升，热管冷端与翅片相贴合，在外壳上部以及外壳下部的外表面均布置铜翅片以扩大散热面积实现散热，翅片与超磁致伸缩超声致动器外表面填充导热胶，保障致动器由中心热源向四周散热。本发明能够有效解决超磁致伸缩超声致动器温度过高、散热较差的问题，保障超磁致伸缩超声致动器的输出特性。
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公开(公告)号：CN107378651A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710662467.6
申请日：2017-08-04
Applicant: 北京交通大学 , 江西德义半导体科技有限公司
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B1/005
Abstract: 本发明提供了一种磁流变平面抛光装置，涉及超精密加工技术领域，该装置包括支架，支架顶端设有平台，平台上固定有旋转座，旋转座上设有抛光盘，旋转座连接有抛光盘驱动机构；抛光盘的上方设有工件夹持机构，工件夹持机构设有夹盘；平台的下方设有磁场发生机构的转盘上以所述转盘的中心为起点，沿等速螺线均匀设置有若干永磁铁。本发明将永磁铁沿等速螺线以磁极方向相反的方式相间排布在转盘上，在抛光盘、待加工工件和永磁铁的旋转复合作用下，使磁流变抛光液形成柔性抛光面，磁流变抛光液中的磨料在脉冲磁场的作用下实时快速更新自锐，提高了磁流变抛光效率，降低了抛光液中磨粒的磨损率，延长了磁流变抛光液的使用寿命，提高了抛光效率和质量。
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公开(公告)号：CN107573854B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201710662144.7
申请日：2017-08-04
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明提供了一种磁流变抛光胶及其制备方法。磁流变抛光胶由羰基铁粉(30％‑70％)、抛光粉(2％‑7％)、凝胶(0.5％‑5％)、气相二氧化硅(0.2％‑1.5％)、去离子水(10％‑35％)、甘油(15％‑40％)组成。制备方法包括：(1)根据磁流变抛光胶的配方称取羰基铁粉、抛光粉、气相二氧化硅、凝胶、去离子水及甘油；(2)将甘油和去离子水放入容器中，搅拌得到甘油水溶液，加热后将凝胶在搅拌下溶于甘油水溶液形成混合溶液。(3)将称取的羰基铁粉、气相二氧化硅和抛光粉，依次加入到混合溶液，再搅拌得到磁流变抛光胶。(4)将形成的磁流变抛光胶放入冷藏室冷藏，取出可用。本发明的磁流变抛光胶制备方法简单，且具有较高的稳定性和较高的剪切屈服应力，能满足加工的性能要求。
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公开(公告)号：CN107363648A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710670607.4
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
IPC: B24B1/04
CPC classification number: B24B1/04
Abstract: 本发明提供了一种超磁致伸缩超声振动抛光装置，包括抛光设备、底座、抛光垫、旋转叶片和超磁致伸缩致动器；所述抛光设备和所述底座通过支柱连接，所述抛光垫安置在所述抛光设备上面，所述旋转叶片安置在所述抛光设备底部，所述超磁致伸缩致动器安置在所述底座上面。本发明以超磁致伸缩制动器为驱动方式，抛光盘高频振动能够提高抛光效率，实现了对硅片等脆硬半导体材料的超精密CMP抛光与超声振动复合抛光，降低了工件表面的压力，使工件表面的变质层厚度降低一倍，改善了抛光表面的质量。
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公开(公告)号：CN107971832B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN201710662142.8
申请日：2017-08-04
Applicant: 北京交通大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明提供了一种用于磁流变抛光的机械旋转式脉冲磁场发生器。主要包括：磁铁盘旋转机构和磁铁盘竖直方向调整机构，磁铁盘旋转机构包括驱动电机、旋转轴、电机支座、磁铁盘、永磁铁簇；永磁铁簇固定安装在磁铁盘上，产生抛光所需磁场，磁铁盘与旋转轴固定连接，驱动电机带动旋转轴旋转，旋转轴带动磁铁盘旋转；磁铁盘竖直方向调整机构与磁铁盘固定连接，带动磁铁盘上下移动。本发明提供的机械旋转式脉冲磁场发生器可以均匀地形成大面积抛光区域，采用旋转磁铁盘的方式使静态磁场转变为动态脉冲磁场，可以迫使柔性抛光头中的磁链重新排布而实现磨粒的快速更新，加速了磨粒与工件表面的接触频率，减少了磨粒的磨损速度，提高了抛光效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107470987A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710662479.9
申请日：2017-08-04
Applicant: 北京交通大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明实施例提供了一种基于磁流变胶的超光滑平面抛光装置，涉及超精密加工技术领域，该装置包括支架，支架的顶端设有平台，平台上固定有旋转座，旋转座上设有抛光盘，旋转座连接有抛光盘驱动机构；抛光盘的上方设有工件夹持机构，工件夹持机构包括有夹盘，平台的下方设有磁场发生机构，磁场发生机构包括有转盘，转盘上均匀设置有若干永磁铁；基于磁流变胶的超光滑平面抛光方法包括以下步骤：将工件固定在抛光头的卡盘上；在抛光盘内加入磁流变胶；通过动态磁场控制磁流变胶的形态，形成柔性抛光头，完成对工件的抛光。本发明通过动态磁场控制磁流变胶的形态进行抛光，可简化抛光装置，提高抛光效率，降低成本，非常适用于超光滑平面零件的抛光。
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公开(公告)号：CN107424720A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710670951.3
申请日：2017-08-08
Applicant: 北京交通大学
CPC classification number: H01F7/0273 , B24B1/005
Abstract: 本发明提供了一种用于磁流变平面抛光的电控永磁式磁场发生装置。主要包括：互相连接的电路控制部分和磁回路结构部分，磁回路结构部分包括：电磁线圈、内磁极、底部磁轭、上部磁轭、隔磁板或隔磁条和外磁极，电路控制部分的输出电流流入电磁线圈，电路控制部分控制输出电流的方向和大小。本发明的脉宽调制磁场电路通过微控制器、固态继电器、电容器、分压调节电阻、电源、二极管等能有效的调节脉宽调制磁场发生器的脉宽调制磁场的频率、脉宽和强度，进而使磁流变液形成硬度和剪切屈服应力可变，并能自行更新磁性颗粒和磨粒的“柔性研磨头”，这使得该脉宽调制磁场发生器在磁流变抛光设备中能针对不同材料的工件实现更为高效和高质量的抛光。
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公开(公告)号：CN106989679A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710098357.1
申请日：2017-02-23
Applicant: 北京交通大学
IPC: G01B11/06
CPC classification number: G01B11/0691
Abstract: 本发明提供了一种非接触式半导体晶片测厚装置。包括：试件托盘、托盘平移丝杠、底座、试件旋转电机和激光位移传感器；底座固定在测量台面上，托盘平移丝杠布置在底座上，被测晶片或陶瓷盘放置在试件托盘上，试件托盘与托盘平移丝杠、试件旋转电机连接，托盘平移丝杠带动试件托盘平行移动，试件旋转电机带动试件托盘旋转；激光位移传感器设置在试件托盘的上方，激光位移传感器测量被测晶片或陶瓷盘上的晶片至测量基准面之间的距离。本发明实施例的装置可以自动精确测量单片晶片以及粘附在陶瓷盘上多片晶片的厚度，解决当前半导体晶片测量效率低且易损伤晶片表面的问题，整个测量过程能够实现全自动化。
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公开(公告)号：CN107481832B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201710662451.5
申请日：2017-08-04
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明提供了一种用于磁流变平面抛光的电控永磁式磁场发生装置。主要包括：互相连接的电路控制部分和磁回路结构部分，所述磁回路结构部分包括：电磁线圈、磁轭及铁芯、左磁极盘、右磁极盘、永磁体和磁极气隙，所述电路控制部分的输出电流流入所述电磁线圈，所述电路控制部分控制所述输出电流的方向和大小。所述电流控制部分包括：电源、电流方向控制电路、分压调节电阻，电流方向控制电路包括单片机和继电器开关。本发明利用电路控制部分不断控制磁线圈两端所产生磁场的方向，使得装置磁路发生变化，最终使得永磁体上方气隙处产生幅值大小与频率均可调整且能够用于磁流变平面抛光的脉动磁场。
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公开(公告)号：CN107443176B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201710662957.6
申请日：2017-08-04
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明提供了一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法，磁流变泡沫作为抛光介质，放置在抛光盘上，在外加磁场作用下形成柔性磁刷，抛光头和抛光盘分别带动工件和磁流变泡沫相对运动实现工件的抛光，抛光时磁流变抛光液与泡沫基体在磁场下相互耦合、共同作用提供抛光所需条件，在磁场作用下磁流变抛光液中铁磁性颗粒会形成磁链，磁链嵌入在泡沫基体的微孔中，增大柔性磁刷的有效剪应力，增大材料去除率，由于泡沫基体的存在，既增加了优化抛光性能的变量，又保留传统磁流变抛光的“容没”效应。本发明节省了磁流变抛光液，降低了成本，同时提高了抛光效率，解决了传统磁流变抛光中磁流变抛光液用量大及材料去除率低的问题。
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