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发明公开
包括抛光调节剂的金属膜抛光用浆料组合物和基板的化学机械抛光方法审中-实审

公开(公告)号：CN119955417A

公开(公告)日：2025-05-09

申请号：CN202411568896.3

申请日：2024-11-05

Applicant: 凯斯科技股份有限公司

Inventor： 黄珍淑 , 林世镇

IPC: C09G1/02 , H01L21/321 , C23F3/06

Abstract: 本发明涉及包括抛光调节剂的金属膜抛光用浆料组合物和基板的化学机械抛光方法。本发明涉及一种包括抛光调节剂的金属膜抛光用浆料组合物，所述抛光调节剂包括烯丙胺类结构单元(A)的聚合物和包含选自由硫(S)、磷(P)和氮(N)组成的群组的至少一种元素的结构单元(Y)的聚合物的共聚物，还涉及利用该金属膜抛光用浆料组合物的化学机械抛光方法。

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