公开(公告)号：CN117433170A

公开(公告)日：2024-01-23

申请号：CN202311390005.5

申请日：2023-10-25

Applicant: 兰州空间技术物理研究所

Inventor： 王虎 ,  王艺 ,  何延春 ,  李中华 ,  李学磊 ,  杨淼 ,  王志民 ,  李林 ,  王兰喜 ,  黄骁 ,  王洁冰 ,  戴琨 ,  徐嶺茂

IPC: F24S70/10 ,  C23C14/20 ,  C23C14/35 ,  B05D1/00

Abstract: 本发明公开了一种空间低吸收低发射柔性热控薄膜及其制备方法。本发明在柔性基材上依次镀制金属膜和硅氧烷膜，利用金属膜的低吸收、低发射性能以及硅氧烷的发射率随厚度增加而增大的特性，通过调节硅氧烷的厚度，调整柔性热控薄膜的吸收发射比，解决了空间飞行器柔性热控薄膜在低吸收低发射前提条件下，降低吸收发射比及吸收发射比调节的难题。